[发明专利]具有后模制镀镍/钯/金的引线的半导体装置无效
申请号: | 200580042625.3 | 申请日: | 2005-10-28 |
公开(公告)号: | CN101405862A | 公开(公告)日: | 2009-04-08 |
发明(设计)人: | 唐纳德·C·阿博特;埃德加·R·祖尼加-奥尔蒂斯 | 申请(专利权)人: | 德州仪器公司 |
主分类号: | H01L23/495 | 分类号: | H01L23/495;H01L21/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王允方;刘国伟 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 后模制镀镍 引线 半导体 装置 | ||
1.一种半导体装置,其包含:
半导体芯片,其具有多个接合垫;
引线框,其包含基底金属且具有多个引线区段,所述区段中的每一者具有接近所述芯片的第一末端和远离所述芯片的第二末端;
电互连,其分别位于所述芯片接合垫与所述第一区段末端之间;
封装材料,其覆盖所述芯片、电互连和第一区段末端,但使所述第二区段末端仍保持暴露;和
所述第二区段末端的至少若干部分,其所述基底金属由可软焊金属层和贵金属最外层的堆叠所覆盖。
2.根据权利要求1所述的装置,其中所述基底金属选自由铜、铜合金、铝、铁-镍合金和殷钢组成的群组。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其中所述可软焊金属包含镍或镍合金。
4.根据权利要求1-3中任一权利要求所述的装置,其中所述最外层包含钯、金或钯与金两者。
5.根据权利要求1-4中任一权利要求所述的装置,其中所述最外层是与所述可软焊金属接触的钯层和与所述钯层接触的金层的堆叠。
6.根据权利要求1-5中任一权利要求所述的装置,其进一步包含位于所述第一区段末端中的每一者上的可接合金属层。
7.根据权利要求6所述的装置,其中所述可接合金属是银。
8.根据权利要求1-7中任一权利要求所述的装置,其中位于所述芯片接合垫与所述第一区段末端之间的所述电互连是接合线或回焊金属元件。
9.一种用于制作半导体装置的方法,其包含以下步骤:
提供具有多个接合垫的半导体芯片;
提供引线框,所述引线框包含基底金属且具有多个引线区段,所述区段中的每一者具有接近所述芯片的第一末端和远离所述芯片的第二末端;
分别将所述芯片接合垫与所述第一区段末端进行电连接;
封装所述芯片、互连和第一区段末端,但使所述第二区段末端仍保持暴露;
将所述第二区段末端的所述基底金属电解电镀上可软焊金属层,随后电解电镀上贵金属层;和修整和成形所述第二区段末端。
10.根据权利要求9所述的方法,其进一步包含以下步骤:
在所述封装步骤之后,对所述暴露的第二区段末端进行修边和清洁;和
在所述电解电镀步骤之前,激活所述暴露的第二区段末端。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德州仪器公司,未经德州仪器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580042625.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。