[发明专利]光催化剂保护

权利要求书

1.一种用于处理包含污染物的气流的气体处理系统，包括：

设置在气流路径内的过滤器；

与所述过滤器流体连通的光催化剂，所述光催化剂可在打开状态和关闭状态之间操作；以及

与所述光催化剂流体连通的等离子装置，所述等离子装置定位成处理所述气流路径中的污染物；

其中，在第一模式当所述光催化剂处于打开状态时所述过滤器保持所述气流中的至少一部分污染物，并随后在第二模式当所述光催化剂处于关闭状态时所述过滤器选择性释放所述污染物，并且所述等离子装置定位在所述过滤器附近以便化学转化所述过滤器释放的污染物，

所述气体处理系统还包括控制器，其用于切换到所述第二模式并再生所述过滤器。

2．根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述等离子装置定位在所述光催化剂的上游。

3．根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述等离子装置定位在所述过滤器的下游。

4．根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述过滤器包括加热器，并且所述加热器加热所述过滤器以便选择性释放所述污染物。

5．根据权利要求1所述的系统，其特征在于：包括与所述等离子装置流体连通的臭氧破坏材料，所述臭氧破坏材料至少从所述等离子装置接收臭氧。

6．根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述过滤器至少包括从所述气流吸附所述污染物的活性碳以便在所述气流接触所述活性碳时保持所述污染物。

7．根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述等离子装置是与所述光催化剂流体连通的多个等离子装置中的一个。

8．一种利用权利要求1所述的气体处理系统防止该气体处理系统中的气体处理构件接收气流路径中的选定污染物的方法，包括以下步骤：

（a）当所述气体处理构件处于所述第一模式时将所述污染物保持在所述气流路径中；

（b）当所述气体处理构件处于所述第二模式时将所述污染物释放到所述气流路径；以及

（c）将所述污染物化学转化成不同的化学转化污染物，

其中，所述气体处理构件包括所述光催化剂和相关光源以便当所述相关光源打开或关闭时分别激活或去活所述光催化剂，并且所述第一模式包括所述光源打开，而所述第二模式包括所述光源关闭。

9．根据权利要求8所述的方法，其特征在于：所述步骤（b）包括当所述气流路径中的气流大约为零时释放所述污染物，而所述步骤（c）包括当所述气流路径中的气流大约为零时化学转化所述污染物。

10．根据权利要求8所述的方法，其特征在于：所述步骤（a）包括将所述污染物吸附到吸附介质上。

11．根据权利要求10所述的方法，其特征在于：所述步骤（b）包括加热所述吸附介质。

12．根据权利要求8所述的方法，其特征在于：所述步骤（c）包括产生等离子并使所述污染物受到所述等离子作用以便产生所述化学转化污染物。

13．根据权利要求12所述的方法，其特征在于：所述步骤（c）包括将所述化学转化污染物沉积在等离子装置的接收部分。