[发明专利]多孔全息膜无效

专利信息
申请号: 200580043019.3 申请日: 2005-12-09
公开(公告)号: CN101080672A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: C·M·范黑施;C·桑切斯;M·J·埃斯库蒂;C·W·M·巴斯蒂安森;D·J·布勒尔 申请(专利权)人: 荷兰聚合物研究所
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/038
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 程大军
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多孔 全息
【权利要求书】:

1.一种制备全息膜的方法,该方法包括:

-提供基材;

-将光致聚合组合物置于所述基材上,其中所述组合物包含:

-(i)具有高反应性的单体,

-(ii)具有低反应性的单体,

-(iii)非反应性材料,

-(iv)光敏聚合引发剂;

-将所述组合物曝光于亮暗区域的光图案下以在该组合物曝光于明亮区域的部分中引发至少部分所述高反应性单体的聚合;和

-引发所述低反应性单体的聚合。

2.根据权利要求1的方法,还包括在聚合所述低反应性单体以后除去至少部分所述非反应性材料以在聚合的组合物中形成孔。

3.根据权利要求1或2的方法,其中所述光图案为干涉图案。

4.根据权利要求1-3中任一项的方法,其中所述低反应性单体的聚合是通过将所述可聚合组合物曝于引发所述低反应性单体聚合的光下而引发的。

5.根据权利要求1-4中任一项的方法,其中所述可聚合组合物包含热引发剂,所述方法包括通过加热所述可聚合组合物以激活所述热引发剂来引发所述低反应性单体的聚合,从而引发了所述低反应性单体的聚合。

6.根据权利要求4或5的方法,其中所述可聚合组合物包含用于引发至少所述高反应性单体聚合的光敏自由基引发剂和用于引发至少所述低反应性单体聚合的自由基引发剂和/或阳离子试剂。

7.根据前述权利要求中任一项的方法,还包括填充至少部分所述孔以包含选自以下组中的官能化合物:液晶、有机和/或无机纳米颗粒、荧光染料、吸收染料、电致发光化合物、导电材料、半导体材料及它们的任何组合。

8.根据前述权利要求中任一项的方法,其中所述高反应性单体包含单官能丙烯酸酯和/或多官能丙烯酸酯、单官能甲基丙烯酸酯和/或多官能甲基丙烯酸酯及它们的任何组合。

9.根据前述权利要求中任一项的方法,其中所述低反应性单体包含单官能环氧化合物和/或多官能环氧化合物及它们的任何组合。

10.一种通过权利要求1-9中任一项的方法得到的全息膜。

11.一种包含高反应性单体、低反应性单体、光引发剂和非反应性材料的光致聚合组合物。

12.包含高反应性单体、低反应性单体、光引发剂和非反应性材料的光致聚合组合物用于形成固体多孔全息膜的用途。

13.一种包含置于基材上的光致聚合组合物的光致聚合元件,其中所述光致聚合组合物包含高反应性单体、低反应性单体、光引发剂和非反应性材料。

14.一种包含聚合物膜的全息膜,其中在第一折射率和第二折射率之间周期性地空间调制所述聚合物膜的折射率,所述第一折射率高于所述第二折射率,所述聚合物膜具有在第一孔隙率和第二孔隙率间周期性空间调制的孔隙率,所述第一孔隙率不同于第二孔隙率,并且所述聚合物膜包含至少第一和第二聚合单体,其中在第一和第二浓度间周期性的空间调制第一聚合单体的浓度,其中所述第一浓度高于所述第二浓度,其中所述第一折射率、第一孔隙率和第一浓度空间一致,并且其中所述第二折射率、第二孔隙率和第二浓度空间一致。

15.根据权利要求14的全息膜,其中所述第一孔隙率与第二孔隙率之差高于1%。

16.根据权利要求14或15的全息膜,其平均孔径为1-100nm。

17.根据权利要求14-16中任一项的全息膜,其中所述第一折射率和所述第二折射率之差大于0.02。

18.根据权利要求17的全息膜,其中所述第一折射率和所述第二折射率之差大于0.04。

19.根据权利要求14-18中任一项的全息膜,其中所述第一聚合单体选自聚合单官能和多官能的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。

20.根据权利要求14-19中任一项的全息膜,其中所述第二聚合单体选自聚合单官能的和多官能的环氧化合物。

21.根据权利要求14-20中任一项的全息膜,在聚合物层中的孔至少部分由选自液晶、荧光染料、吸收染料、电致发光化合物、导电材料、半导体材料及它们的任何组合的光学功能化合物填充。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于荷兰聚合物研究所,未经荷兰聚合物研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580043019.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top