[发明专利]用于放射性同位素内源式产生、尤其是用于PET的装置

权利要求书

1.一种用于放射性同位素内源式产生的装置，包括：

-真空容器，真空容器的内表面至少部分地处理成抗离子注入而且相对于核反应产物惰性化，

-设置在上述真空容器里面的一对同轴圆柱形电极，

-电容器组，

-把上述电容器组连接到上述电极以在后者之间产生放电，因而形成电弧放电类等离子体、而且建立用于开展产生放射性同位素的核反应的条件的装置，上述连接装置包括同轴电缆，把具有下列技术要求的快速开关插入这些电缆中：

-额定电流不小于50kA

-电感不大于50nH

-接通时间不大于50ns

-抖动不大于2ns

-不小于1Hz的重复能力

-安装到上述真空容器用于形成不高于10^-6Torr的真空度的装置，

-安装到上述真空容器用于在形成真空以后以大约10Torr压力引入至少一种通常保证在放电期间形成等离子体的反应气体和随后达到象这样10¹⁵keV·s/cm³数量级的等离子体的限制条件的装置，

-安装到上述真空容器用于抽取出气体而且把气体贮藏在气体色谱仪的圆筒内的装置，以及

-捕集装置，捕集装置包括与二个同轴电极连接的一对同轴零件，各种同轴电缆的屏蔽线与外部同轴零件连接，而各种同轴电缆的内芯导线在跨越过所述外部同轴零件后与内部同轴零件连接。

2.根据权利要求1的装置，其特征在于真空容器是圆柱形的而且具有用球形壳体密封的一个端面。

3.根据权利要求1的装置，其特征在于给真空容器的内侧面衬以陶瓷层。

4.根据权利要求1的装置，其特征在于给真空容器的内侧面衬以钒族中的重金属。

5.根据权利要求4的装置，其特征在于给真空容器的内侧面衬以钒。

6.根据权利要求4的装置，其特征在于给真空容器的内侧面衬以钽。

7.根据权利要求4的装置，其特征在于给真空容器的内侧面衬以钨。

8.根据权利要求4的装置，其特征在于真空容器至少部分镀有镍。

9.根据权利要求1的装置，其特征在于所述捕集装置的总电感不超过50nH。

10.根据权利要求1的装置，其特征在于真空容器安装真空泵。

11.根据权利要求1的装置，其特征在于真空容器安装至少一个反应气体源。

12.根据权利要求11的装置，其特征在于真空容器安装连接不同反应气体的数个气体源的混合器。

13.根据权利要求1的装置，其特征在于真空容器安装一种用于抽取气体，用于气体过滤以捕获放射性同位素，和用于在上述的捕获以后把气体重新引入真空容器内的外部回路。

14.根据权利要求1的装置，其特征在于真空容器安装用于以低温方法抽取气体的冷却回路。