[发明专利]可适应性扫描光学显微镜

权利要求书

1.一种可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，包括：

一个对不同的选定的场位置进行有限成像的一个扫描透镜组装部件，这样，光学像差就会成为场位置的函数，根据选定场位置的不同而变化，扫描透镜部件会形成一个像场；

成像可控仪器，所述成像可控仪器将来自每个场位置的光线进行可控转向，然后使光线沿着从目标到最终成像面的光路运行，沿着光路上的光线具有一个波阵面；

一个可适应性光学元件，所述可适应性光学元件能够影响光路中波阵面的形状，从而对至少一部分的取决于场位置的光学像差进行补偿，同时向光路中光波阵面引入选定的形状；

附加成像光学器件，所述其它的成像光学器件在光路的至少部分位置上，能够对可适应性光学元件和最终成像平面的光线进行处理；以及

最终成像光学器件，所述最终成像光学器件将图像投射到最终成像平面。

2.如权利要求1所述的可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，所述扫描透镜组装部件形成的是弯曲像场。

3.如权利要求1所述的可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，所述成像可控仪器包括一个可控反射镜和控制反射镜转向的装置。

4.如权利要求1所述的可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，所述可适应性光学元件由一个可变形反射镜构成。

5.如权利要求1所述的可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，所述附加成像光学器件包括一个针对可适应性光学元件的预处理平台和一个对可适应性光学元件的后处理平台，所述预处理平台对沿着可见光光路的光线进行调节，从而使可适应性光学元件的光圈尺寸与扫描透镜组装部件的光学要求相配，目的是为了利用可适应性光学元件的有效区域；所述后处理平台对沿着光路的光线进行调节，从而使可适应性光学元件的光圈尺寸与最终成像光学器件的光学要求相配。

6.如权利要求5所述的可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，所述针对可适应性光学元件的预处理平台和后处理平台都包括至少一个负透镜和至少一个正透镜。

7.如权利要求1所述的可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，所述可适应性扫描光学显微镜还包括一个孔径光阑，所述孔径光阑定义了由装置接收和投射到最终成像平面的光束的边界。

8.如权利要求1所述的可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，所述可适应性扫描光学显微镜进一步包括最终成像光学器件和一个光传感器，所述最终成像光学器件提供附加的放大和缩小，达到一个选定的整个系统的放大倍数，所述最终成像光学器件同时会将最终图像投射到最终成像平面上，所述光传感器会感应最终图像。

9.如权利要求1所述的可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，所述扫描透镜组装部件包括一个光电机械组装部件，所述光电机械组装部件包括一个或多个透镜或者反射镜元件，所述透镜或者反射镜元件包括至少一个下列配件：玻璃透镜元件；塑胶透镜元件；GRIN(梯度折射率)元件；折射透镜元件；球面光学元件；非球面光学元件；至少一個表现出一外光瞳、一焦阑状态、一非焦阑状态的元件；一个针对所有场位置的统一的数值孔径，一个针对不同场位置的非统一数值孔径；至少一个充分服从一f-theta像差成像、一f-cosine-theta像差成像、一f-sine-theta像差成像的元件；至少一个在首次中间成像平面投射出一弯曲像场、在完全是球面的首次中间成像平面投射出一弯曲像场、以及在完全是抛物线形的首次中间成像平面投射出一弯曲像场的元件。

10.如权利要求1所述的可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，所述成像可控仪器包括一个可控反射镜和控制可控反射镜转向的装置，所述控制可控反射镜进行转向的装置包括至少一个检流计，音圈制动器，压电制动器，静电制动器，万向节机械装置，一个平行机械装置，一个弯曲机械装置，或者一个电磁悬浮装置，可控反射镜具有平反射表面，弯曲反射表面，完全球面的弯曲反射表面，完全非球面的弯曲反射表面，或者旋转棱镜中的至少一个面。

11.如权利要求1所述的可适应性扫描光学显微镜，其特征在于，所述可适应性光学元件至少包括可变形反射镜，空间光线调节器，一个光学定相排列，一个可变形透镜，以及一个光电元件中的一个。