[发明专利]用于二氧化硅和氮化硅层的蚀刻的可印刷介质

权利要求书

1.用于蚀刻和任选地掺杂选自基于二氧化硅的玻璃和基于氮化硅的玻璃的无机玻璃状或结晶层的糊剂形式的可印刷蚀刻介质，该层位于结晶或无定形硅表面上，该介质包括

a)蚀刻组分

b)溶剂

c)聚合物和/或无机粒子，

d)任选地均匀溶解的有机增稠剂

e)任选地至少一种无机和/或有机酸，和任选地

f)添加剂，如防沫剂、触变剂、流动控制剂、脱气剂、粘合促进剂。

2.根据权利要求1的可印刷蚀刻介质，其特征在于加入相对粒径为10nm-50μm，优选100nm-30μm和非常特别优选1μm-10μm的聚合物粒子。

3.根据权利要求1的可印刷蚀刻介质，其特征在于它包括数量为1-80wt％的聚合物粒子，基于总数量。

4.根据权利要求1的可印刷蚀刻介质，其特征在于它包括数量为10-50wt％，特别地20-40wt％的聚合物粒子，基于总数量。

5.根据权利要求1的可印刷蚀刻介质，其特征在于蚀刻组分存在的数量为12-30wt％，优选2-20wt％和特别优选5-15wt％，基于总数量。

6.根据权利要求1的可印刷蚀刻介质，其特征在于增稠剂存在的数量为3-20wt％，基于总数量。

7.根据权利要求1-6的可印刷蚀刻介质，其特征在于它包括一种或不同形式的磷酸、磷酸盐或在加热时分解成相应的磷酸并作为蚀刻组分和作为掺杂组分的化合物。

8.根据权利要求1-7的可印刷蚀刻介质，用于玻璃表面，它包括选自如下的元素：钙、钠、铝、铅、锂、镁、钡、钾、硼、铍、磷、镓、砷、锑、镧、钪、锌、钍、铜、铬、锰、铁、钴、镍、钼、钒、钛、金、铂、钯、银、铈、铯、铌、钽、锆、钇、钕和镨。

9.根据权利要求1和5的蚀刻介质，其特征在于它包括作为蚀刻组分的以下物质：

选自铵、碱金属和锑的氟化物，铵、碱金属和钙的二氟化物，烷基化的铵和钾的四氟硼酸盐的至少一种氟化合物，和/或任选地

选自盐酸、磷酸、硫酸和硝酸的至少一种无机酸，和/或任选地

选自烷基羧酸、羟基羧酸和二羧酸的至少一种有机酸，它可包含含有1-10个C原子的直链或支化烷基。

10.根据权利要求9的蚀刻介质，其特征在于它包括选自甲酸、乙酸、乳酸和草酸的有机酸。

11.根据权利要求1-10的蚀刻介质，其特征在于有机和/或无机酸的比例是0-80wt％的浓度，基于介质的总数量，其中加入的酸每种的pK_a数值为0-5。

12.根据权利要求1-11的蚀刻介质，其特征在于它包括作为溶剂的水、一元醇或多元醇，如甘油、1，2-丙二醇、1，4-丁二醇、1，3-丁二醇、1，5-戊二醇、2-乙基-1-己烯醇、乙二醇、二甘醇和二丙二醇、及其醚，如乙二醇单丁基醚、三甘醇单甲基醚、二甘醇单丁基醚和二丙二醇单甲基醚，和酯，如[2，2-丁氧基(乙氧基)]乙基乙酸酯，碳酸酯，如碳酸丙烯酯，酮，如苯乙酮、甲基-2-己酮、2-辛酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮和1-甲基-2-吡咯烷酮，该溶剂按自身或以混合物，数量为10-90wt％，优选数量为15-85wt％，基于介质的总数量。

13.根据权利要求1-12的蚀刻介质，其特征在于它包括如下的聚合物粒子：聚苯乙烯、聚丙烯酸化合物、聚酰胺、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸酯、蜜胺、尿烷、苯并鸟嘌呤和酚醛树酯、硅树脂、微粉化纤维素、氟化聚合物(PTFE，PVDF)和微粉化蜡。

14.根据权利要求1-12的蚀刻介质，其特征在于它包括如下的无机粒子：氧化铝、氟化钙、氧化硼和氯化钠。

15.根据权利要求1-12的蚀刻介质，其特征在于它包括如下的一种或多种均匀溶解的增稠剂：

纤维素/纤维素衍生物和/或

淀粉/淀粉衍生物和/或

黄原胶和/或

聚乙烯基吡咯烷酮

基于官能化乙烯基单元的丙烯酸酯的聚合物。

16.根据权利要求1-12的蚀刻介质，其特征在于它包括数量为0.5-25wt％的根据权利要求15的均匀分布的增稠剂，基于蚀刻介质的总数量。