[发明专利]调色剂、和显影剂、显影装置、处理盒、成像装置和成像方法有效
申请号: | 200580046230.0 | 申请日: | 2005-12-26 |
公开(公告)号: | CN101099116A | 公开(公告)日: | 2008-01-02 |
发明(设计)人: | 杉浦英树;中山慎也 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G9/08 | 分类号: | G03G9/08;G03G9/087;G03G9/10 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋莉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调色 显影剂 显影 装置 处理 成像 方法 | ||
1.一种调色剂,它包括:
含有粘合剂树脂和着色剂的调色剂基础颗粒,
其中调色剂基础颗粒具有18nm到50nm的表面粗糙度Ra和0.5nm 到9.9nm的表面粗糙度标准偏差RMS。
2.根据权利要求1的调色剂,其中调色剂基础颗粒的表面粗糙度Rz 是30nm到200nm。
3.根据权利要求1的调色剂,其中无机微粒包含在调色剂基础颗粒 的内部。
4.根据权利要求1的调色剂,其中调色剂基础颗粒的平均圆度是0.93 到1.00。
5.根据权利要求1的调色剂,其中调色剂基础颗粒的体均粒径Dv 是2.0μm到6.0μm,并且体均粒径Dv对数均粒径Dn的比例,即Dv/Dn, 是1.00到1.40。
6.根据权利要求1的调色剂,其中表面粗糙度Ra对体均粒径Dv的 比例,Ranm/Dvμm,是0.3到17.0。
7.根据权利要求1的调色剂,其中调色剂基础颗粒由以下式III表示 的形状系数SF-2为100到140,并且表面粗糙度Ra对形状系数SF-2的 比例,即Ra/SF-2,为0.008到0.500:
其中PERI表示通过使调色剂基础颗粒投影到二维平面而获得的形状的圆 周长度,并且AREA表示通过使调色剂基础颗粒投影到二维平面而获得 的形状的面积。
8.根据权利要求1的调色剂,其中调色剂基础颗粒在调色剂基础颗 粒表面上包括与所述粘合剂树脂不同的树脂。
9.根据权利要求1的调色剂,其中调色剂基础颗粒在调色剂基础颗 粒中包括防粘剂。
10.根据权利要求1的调色剂,其中通过在液体介质中造粒而获得该 调色剂。
11.根据权利要求1的调色剂,其中通过将溶液或分散体在水性介质 中造粒,接着除去有机溶剂,获得该调色剂,在该溶液或分散体中包含无 机微粒的调色剂材料溶解或分散在有机溶剂中。
12.根据权利要求10的调色剂,其中通过将调色剂材料溶解或分散 在有机溶剂中,接着将溶液或分散体分散在水性介质中,进行交联反应和 延伸反应中的任何一种,获得该调色剂,所述调色剂材料包括具有含氮原 子官能团的聚酯预聚物、聚酯树脂、着色剂和防粘剂。
13.一种显影剂,包括:
含有调色剂基础颗粒的调色剂,所述调色剂基础颗粒含有粘合剂树脂 和着色剂,
其中调色剂基础颗粒具有18nm到50nm的表面粗糙度Ra和0.5nm 到9.9nm的表面粗糙度标准偏差RMS。
14.根据权利要求13的显影剂,其中该显影剂是单组分显影剂和二 组分显影剂中的任何一种。
15.一种显影装置,其中通过潜像承载部件承载并传送显影剂,并且 在与潜像承载部件相对的位置施加交流电场,使潜像承载部件上的静电潜 像显影;
其中该显影剂包括含有调色剂基础颗粒的调色剂,所述调色剂基础颗 粒含有粘合剂树脂和着色剂,
其中调色剂基础颗粒具有18nm到50nm的表面粗糙度Ra和0.5nm 到9.9nm的表面粗糙度标准偏差RMS。
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