[发明专利]使用可用于产生光掩模定单的逻辑操作实体自动产生加工规范的系统和方法无效
申请号: | 200580047015.2 | 申请日: | 2005-05-12 |
公开(公告)号: | CN101443769A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 查尔斯·E.·克罗克;克里斯托弗·J.·普洛格勒;韩合诚;尤舒;周克勇;朱宏金 | 申请(专利权)人: | 美商福昌公司 |
主分类号: | G06F19/00 | 分类号: | G06F19/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王 萍 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 用于 生光 定单 逻辑 操作 实体 自动 产生 加工 规范 系统 方法 | ||
1.一种用于制造光掩模的方法,包括以下步骤:
从光掩模用户的计算机系统接收加工规范;
分析该加工规范;
把分析的结果发送给光掩模用户的计算机系统;
接收根据该加工规范生成的光掩模定单;以及
根据光掩模定单制造光掩模。
2.如权利要求1所述的方法,其中加工规范按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少一种格式被接收。
3.如权利要求2所述的方法,其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一:GDSII,MEBES,Oasis,DXF,Applican,.cflt,.cinc和.ps。
4.如权利要求1所述的方法,其中加工规范被分析,以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一。
5.如权利要求4所述的方法,其中分析的结果包括以下中至少之一:热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。
6.如权利要求1所述的方法,还包括在分析加工规范之后把加工规范向回发送给光掩模用户的计算机系统的步骤。
7.如权利要求6所述的方法,还包括在把加工规范向回发送给光掩模用户的计算机系统之前根据所述分析来修改加工规范的步骤。
8.如权利要求1所述的方法,还包括使用加工规范模拟光掩模设计的步骤。
9.如权利要求8所述的方法,其中使用模拟的光掩模设计对加工规范进行分析。
10.一种用于生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法,包括以下步骤:
通过创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分而生成加工规范;
把该加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统,以用于对该加工规范进行分析;
从光掩模制造者的计算机系统接收分析的结果;
根据加工规范生成光掩模定单;以及
把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。
11.如权利要求10所述的方法,其中逻辑操作的成分包括下列中的至少之一:数据层属性,输入数据属性,表达式,图案组和别名。
12.如权利要求10所述的方法,还包括从外部源输入用于逻辑操作的成分的数据的步骤。
13.如权利要求12所述的方法,其中输入数据的步骤使用指令行发生器和扫描器中的至少一个进行。
14.如权利要求12所述的方法,其中外部源是下列中至少之一:数据库,GDSII文件,MEBES文件,以及光掩模定单模板。
15.如权利要求14所述的方法,其中外部源是数据库,并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。
16.如权利要求10所述的方法,其中逻辑操作的至少一个成分被从至少一个查找表中选择。
17.如权利要求11所述的方法,其中逻辑操作的成分包括至少一个别名,所述方法还包括根据所述至少一个别名的默认值来修改该至少一个别名的步骤。
18.如权利要求10所述的方法,还包括验证加工规范的格式的步骤。
19.如权利要求18所述的方法,其中加工规范的格式使用一组规则被验证。
20.如权利要求10所述的方法,还包括把加工规范转换成可以由第三方数据断裂应用使用的格式的步骤。
21.如权利要求10所述的方法,其中加工规范按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少之一被生成。
22.如权利要求21所述的方法,其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一:GDSII,MEBES,Oasis,DXF,Applican,.cflt,.cinc和.ps。
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