[发明专利]涂层用组合物、硬涂膜及光记录介质有效
申请号: | 200580047504.8 | 申请日: | 2005-11-22 |
公开(公告)号: | CN101111580A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
发明(设计)人: | 本乡有记;富冈健太;所司悟 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | C09D171/02 | 分类号: | C09D171/02;C08J7/04;C09D4/00;C09D7/12;C09D183/04;G02B1/10;G11B7/24;G11B7/254;G11B7/257;C08L101/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈昕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂层 组合 硬涂膜 记录 介质 | ||
1.涂层用组合物,其特征在于,含有:
分子内具有1个以上聚合性不饱和基团的有机化合物以化学键合在无机氧化物粒子上形成的反应性粒子(A);
分子内具有聚环氧乙烷链和2个以上聚合性不饱和基团,且不具有芳环和碳数7以上的烷基链的有机化合物的单体或低聚物(B);
分子内具有2个以上聚合性不饱和基团的除上述有机化合物的单体或低聚物(B)以外的有机化合物的单体或低聚物(C);和
具有二烷基硅氧烷骨架的硅氧烷类化合物(D),
上述有机化合物的单体或低聚物(B)的含量为20~80质量%,
由下式导出的上述有机化合物的单体或低聚物(B)中的聚环氧乙烷的含有率为50%以上且小于100%,
聚环氧乙烷的含有率=(C2H4O部位的原子量的合计/有机化合物的单体或低聚物(B)的分子量)×100。
2.如权利要求1所述的涂层用组合物,其特征在于,
上述硅氧烷类化合物(D)是具有二烷基硅氧烷骨架、且分子内具有1个以上聚合性不饱和基团的硅氧烷类化合物(D1),而且,
上述涂层用组合物基本上不含硅氧烷类化合物(D2),所述硅氧烷类化合物(D2)是具有二烷基硅氧烷骨架、但分子内不具有聚合性不饱和基团的硅氧烷类化合物。
3.如权利要求1或2所述的涂层用组合物,其特征在于,还含有氟类化合物(E)。
4.如权利要求1~3中任一项所述的涂层用组合物,其特征在于,具有二烷基硅氧烷骨架的硅氧烷类化合物(D)的含量和氟类化合物(E)的含量的合计为2~80质量%。
5.硬涂膜,其特征在于,具有:
基材薄膜;和
将权利要求1~4中任一项所述的涂层用组合物涂敷在上述基材薄膜的至少一个面上,并使之固化而成的厚度为0.1~20μm的硬涂层。
6.如权利要求5所述的硬涂膜,其特征在于,其400nm的分光透射率为85%以上。
7.光记录介质,其特征在于,具有权利要求5或6所述的硬涂膜。
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