[发明专利]薄片的阻挡保护层

权利要求书

1.涂敷的基底，其特征在于具有多个依次的单层的涂层，尤其是阻挡涂层，所述单层分别具有相对于邻接的单层而言不同的或相同的性质，其中所述单层的层厚度分别最高为50纳米。

2.根据权利要求1的涂敷的基底，其特征在于，所述涂层，尤其是阻挡涂层的至少一个单层，优选多个单层，尤其是多个依次的单层，尤其甚至是所有的单层的层厚度最高为10纳米。

3.根据权利要求1或2的涂敷的基底，其特征在于，所述涂层，尤其是阻挡涂层的至少一个单层，优选多个单层，尤其是多个依次的单层，尤其甚至是所有的单层的层厚度最高为2纳米，优选甚至小于2纳米。

4.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，所述涂层，尤其是阻挡涂层的至少一个单层与邻接的单层的区别在于它们的化学组成。

5.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，至少一个单层具有结晶的，尤其是很细结晶的或部分结晶的结构。

6.根据权利要求5的涂敷的基底，其特征在于含有多个依次的、相同结晶层的层。

7.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，所述涂层，尤其是阻挡涂层的至少一个单层与邻接的单层的区别在于它们的形态。

8.根据权利要求7的涂敷的基底，其特征在于，所述单层与邻接的单层的区别在于它们的晶体结构。

9.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，所述阻挡涂层包含至少一个含有相同组成、但不同形态的单层的分层组。

10.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，所述单层相互的区别在于它们的生长模式。

11.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，至少一个单层具有无定形的或者至少部分无定形的结构。

12.根据权利要求11的涂敷的基底，其特征在于含有多个依次的、相同的、至少部分无定形的层的层。

13.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，所述涂层，尤其是阻挡涂层包含至少一个含有不同性能的交替层的分层组。

14.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，所述阻挡涂层包含至少一个含有无定形的和邻接的、至少部分结晶的、优选很细结晶的层的分层组。

15.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，所述阻挡涂层包含至少一个含有两个至少部分结晶的、优选很细结晶的不同组成的层的分层组，所述层之间分别排列一个无定形的层。

16.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，所述涂层，尤其是阻挡涂层是透明的。

17.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于一个透明的基底。

18.根据权利要求16或17的涂敷的基底，其特征在于，所述涂层，尤其是阻挡涂层的透明性相应于基底的透明性。

19.根据权利要求16到18之一的涂敷的基底，其特征在于，在可见光谱区，涂敷的基底的光透射性与没有该涂层，尤其是阻挡涂层的基底的透射性偏离最高为5％。

20.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，所述涂层，尤其是阻挡涂层的折射率相应于基底表面的折射率，或者与其偏离最高为5％。

21.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于一种含有该涂层，尤其是阻挡涂层的抗反射层体系，其中，整个层体系起到抗反射作用，并且该抗反射层体系的至少一层包含一个分层组，其含有多个依次的薄层，该薄层的单层的平均厚度最高为50纳米，其有效折射率这样确定，使得该抗反射层体系总体上起到抗反射作用。

22.根据前述权利要求之一的涂敷的基底，其特征在于，至少一个单层，优选所有单层含有无机氧化物，尤其是无机氧化物层。