[发明专利]微粒状二氧化硅有效

专利信息
申请号: 200580049421.2 申请日: 2005-05-19
公开(公告)号: CN101160261A 公开(公告)日: 2008-04-09
发明(设计)人: 长谷安浩;石本龙二;有行正男 申请(专利权)人: 株式会社德山
主分类号: C01B33/12 分类号: C01B33/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈昕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 微粒 二氧化硅
【权利要求书】:

1.一种微粒状二氧化硅,是BET比表面积(S)为130~380m2/g的微粒状二氧化硅,其特征是,在小角度X射线散射分析中,α值分析对象范围为20nm~30nm的分形参数(α1)满足下述式(1),并且α值分析对象范围为30nm~50nm的分形参数(α2)满足下述式(2)

α1+0.00175S<2.518...(1)

α2+0.00174S<2.105...(2)。

2.一种疏水化微粒状二氧化硅,其特征是,在权利要求1所述的微粒状二氧化硅的表面存在有疏水化剂。

3.一种水性分散液,是将权利要求1所述的微粒状二氧化硅分散于水类溶剂中而成。

4.一种液状树脂用增粘剂,由权利要求1所述的微粒状二氧化硅制成。

5.一种树脂用填充剂,由权利要求1所述的微粒状二氧化硅制成。

6.一种喷墨记录纸用填料,由权利要求1所述的微粒状二氧化硅制成。

7.一种微粒状二氧化硅的制造方法,是在氢的存在下对挥发性硅化合物进行火焰水解而制造微粒状二氧化硅的方法,其特征是,作为挥发性硅化合物使用由三氯硅烷20~90容量%和四氯硅烷10~80容量%构成的混合气体,并且将在火焰水解中所用的氢的量设为相对于理论量达到1.20~2.20倍的量。

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