[发明专利]陀螺仪有效
申请号: | 200580049895.7 | 申请日: | 2005-05-24 |
公开(公告)号: | CN101180516A | 公开(公告)日: | 2008-05-14 |
发明(设计)人: | 三田信;斋藤宏文;年吉洋 | 申请(专利权)人: | 独立行政法人宇宙航空研究开发机构 |
主分类号: | G01C19/56 | 分类号: | G01C19/56;G01P9/04;H01L29/84 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 陀螺仪 | ||
1.一种陀螺仪,其特征在于,包括:
外框;
内框,其配置于上述外框内;
多个检测用质量块,其配置于上述内框内;
多个外侧支承弹簧,其将上述外框与上述内框结合,使上述内框可相对于上述外框朝一方向移动地支承该内框;
多个内侧支承弹簧,其将上述内框与各个上述检测用质量块结合,使上述检测用质量块可向与上述一方向垂直的方向移动地支承该检测用质量块;
驱动器,其用于对各个上述检测用质量块加速;
检测器,其用于检测上述内框相对于上述外框的位移,
由上述驱动器使上述多个检测用质量块振动,使由于各检测用质量块的振动分别产生的哥氏力在上述内框合并。
2.一种陀螺仪,其特征在于,包括:
外框;
内框,其配置于上述外框内;
多个检测用质量块,其在上述内框内,配置于以上述内框的旋转轴为中心的圆周上;
多个外侧支承弹簧,其将上述外框与上述内框结合,使上述内框能以上述旋转轴为中心进行旋转地支承该内框;
多个内侧支承弹簧,其将上述内框与各个上述检测用质量块结合,使上述检测用质量块可沿上述内框的径向移动地支承该检测用质量块;
驱动器,其用于对各个上述检测用质量块加速;
检测器,其用于检测上述内框相对于上述外框的位移,
由上述驱动器使上述多个检测用质量块同步振动,使由于各检测用质量块的振动分别产生的哥氏力在上述内框合并,而在上述内框产生转矩。
3.根据权利要求1或2所述的陀螺仪,其特征在于,具有由硅制成的第1层和第2层,在上述第1层和上述第2层这两层均配置有上述外框、上述内框、上述检测用质量块,上述外侧支承弹簧和上述内侧支承弹簧配置在第1层或第2层的任一层上。
4.一种制造方法,是由绝缘体上硅基板一体形成陀螺仪的制造方法,该绝缘体上硅基板是隔着硅氧化膜接合了两张硅基板而成的,该陀螺仪具有外框、内框、检测用质量块、结合上述外框和上述内框的外侧支承弹簧、结合上述检测用质量块和上述内框的内侧支承弹簧,其特征在于,包括如下步骤:
(a)在第1面上堆积硅氧化膜并形成图案,在上述硅氧化膜之上堆积铝层并形成图案,在上述绝缘体上硅基板的第2面上堆积铝层并形成图案;
(b)从上述第1面,对除了被上述铝层掩盖的部分以外的部分进行蚀刻,形成第1层的构造;
(c)除去上述第1面的上述铝层,露出上述硅氧化膜,再从上述第1面进行蚀刻,对除了被上述硅氧化膜掩盖的部分以外的部分进行蚀刻,做成上述第1层的可动部分浮起的构造;
(d)从上述第2面进行蚀刻,对除了被上述铝层掩盖的部分以外的部分进行蚀刻,形成第2层的构造;
(e)通过牺牲层蚀刻除去上述绝缘体上硅基板的硅氧化膜,将上述第1层和上述第2层的构造从上述外框断开。
5.根据权利要求4所述的制造方法,其特征在于,用深反应离子蚀刻进行上述(b)、(c)、(d)的蚀刻工序。
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