[发明专利]管理方法及管理装置无效
申请号: | 200580051700.2 | 申请日: | 2005-09-27 |
公开(公告)号: | CN101273311A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 冈安俊幸;须川成利;寺本章伸 | 申请(专利权)人: | 爱德万测试株式会社;国立大学法人东北大学 |
主分类号: | G05B19/418 | 分类号: | G05B19/418 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 | 代理人: | 齐永红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 管理 方法 装置 | ||
1、一种管理方法,是针对通过多道生产工序生产电子器件的被管理生产线,管理各道生产工序中使用的各个生产装置的管理方法,其特征在于具有:
基准特性取得阶段,其取得基准器件的特性,该基准器件通过可实施前述多道生产工序的、预定的基准生产线生产;
比较器件生产阶段,其使前述被管理生产线处理前述多道生产工序中的至少一道生产工序,使前述基准生产线处理其它生产工序,生产比较器件;
比较特性测定阶段,其测定前述比较器件的特性;
特性比较阶段,其比较前述基准器件的特性和前述比较器件的特性;
判定阶段,其根据前述特性的差异,判定处理前述比较器件的前述被管理生产线的前述生产工序中使用的前述生产装置是否良好。
2、根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于:其在前述基准特性取得阶段内测定前述基准器件的特性。
3、根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于:还具有保证阶段,其预先测定前述基准生产线中使用的多个前述生产装置的特性,预先保证前述基准生产线中使用的各个前述生产装置良好。
4、根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于还具有:
信息取得阶段,其预先取得前述被管理生产线中使用的多个前述生产装置的信息;
基准生产线构筑阶段,其根据前述生产装置的信息,预先构筑前述基准生产线。
5、根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于:还具有基准选择阶段,其从用同一生产工序生产前述电子器件的多道生产线中预先选择前述基准生产线。
6、根据权利要求5所述的管理方法,其特征在于前述基准选择阶段具有:
测定阶段,其预先测定通过各道前述生产线生产的各个前述电子器件的特性;
选择阶段,其根据各个前述电子器件的特性,从前述多道生产线中预先选择前述基准生产线。
7、根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于:
前述基准特性取得阶段,以及前述比较器件生产阶段通过前述多道生产工序生产前述电子器件,该电子器件具有测试电路,该测试电路包括呈二维矩阵形排列,各自含有前述被测定晶体管的多个被测定电路,以及使指定的一个前述被测定电路的输出信号向前述多个被测定电路共同设置的输出信号线输出的选择部;
前述基准特性取得阶段具有:
晶体管选择阶段,其在前述基准器件的前述测试电路中,通过前述选择部依次选择前述多个被测定电路;
输出测定阶段,其根据前述基准器件的前述测试电路中,选择出的前述被测定电路向前述输出信号线输出的前述输出信号,测定各个前述被测定电路具有的前述被测定晶体管的电特性;
前述比较特性测定阶段具有:
晶体管选择阶段,其在前述比较器件的前述测试电路中,通过前述选择部依次选择前述多个被测定电路;
输出测定阶段,其根据前述比较器件的前述测定电路中,选择出的前述被测定电路向前述输出信号线输出的前述输出信号,测定各个前述被测定电路具有的前述被测定晶体管的电特性。
8、根据权利要求7所述的管理方法,其特征在于各个前述被测定电路包括:
栅极电压控制部,其把指定的栅极电压外加给前述被测定晶体管的栅极端子;
基准电压输入部,其把从外部输入的基准电压提供给前述被测定晶体管的漏极端子以及源极端子中的一方的基准电压侧端子;
端子电压输出部,其以从外部输入选择信号为条件,把前述被测定晶体管的漏极端子以及源极端子中前述基准电压侧端子以外的端子的端子电压作为前述输出信号输出;
前述选择部包括:
行选择部,其向二维矩阵形排列的前述多个被测定电路中,与指定的行对应的前述被测定电路输出前述选择信号;
列选择部,其从输入前述选择信号的前述被测定电路中,选择出与指定的列对应的前述被测定电路的端子电压,使之向前述输出信号线输出;
前述测试电路还包括:
多个电流源,其与前述多个被测定电路的各列对应设置,使指定的源极漏极间电流在前述行选择部输入了前述选择信号的前述被测定电路中流动;
前述基准特性取得阶段以及前述比较特性测定阶段作为各个前述被测定晶体管的前述电特性,测定前述端子电压。
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