[发明专利]在高压下以超临界或近临界的处理介质处理基片的装置有效
| 申请号： | 200610001191.9 | 申请日： | 2006-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN1807739A | 公开（公告）日： | 2006-07-26 |
| 发明（设计）人： | H·C·派利坎;G·F·武尔莱 | 申请（专利权）人： | 斯托克印刷公司 |
| 主分类号： | D06B1/00 | 分类号： | D06B1/00;D06B9/00;D06F43/00;D06F37/30;H02K3/30;H02K5/16 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 荷兰博*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 压下 临界 处理 介质 装置 | ||
【权利要求书】：
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