[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200610004195.2 | 申请日： | 2006-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN1825208A | 公开（公告）日： | 2006-08-30 |
| 发明（设计）人： | M·K·斯塔文加;J·H·W·雅各布斯;H·詹森;M·C·M·维哈根 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 胡强 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【说明书】：
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