[发明专利]使用宽射束的非均一离子注入设备及方法无效
| 申请号： | 200610004409.6 | 申请日： | 2006-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN1891854A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | 李民镛 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48;C23C14/56;H01J25/50;H01J37/317;H01L21/22 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 宽射束 均一 离子 注入 设备 方法 | ||
【说明书】：
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