[发明专利]厚度一致的硅气相外延层的生长装置及生长方法无效
| 申请号： | 200610014043.0 | 申请日： | 2006-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN1896340A | 公开（公告）日： | 2007-01-17 |
| 发明（设计）人： | 刘玉岭;张建新;黄妍妍 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | C30B25/02 | 分类号： | C30B25/02;C30B29/06 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 | 代理人： | 肖莉丽 |
| 地址： | 30013*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 厚度 一致 硅气相 外延 生长 装置 方法 | ||
【说明书】：
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