[发明专利]超大规模集成电路多层布线SiO2介质的纳米SiO2磨料抛光液无效
| 申请号： | 200610014298.7 | 申请日： | 2006-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN1887997A | 公开（公告）日： | 2007-01-03 |
| 发明（设计）人： | 刘玉岭;孙鸣 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306;H01L21/768 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 | 代理人： | 刘英兰 |
| 地址： | 30013*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 超大规模集成电路 多层 布线 sio sub 介质 纳米 磨料 抛光 | ||
【说明书】：
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