[发明专利]缩小光刻胶接触孔图案的临界尺寸的方法有效
| 申请号： | 200610024870.8 | 申请日： | 2006-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN101042536A | 公开（公告）日： | 2007-09-26 |
| 发明（设计）人： | 崔彰日 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/38;G03F1/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾晋伟;刘继富 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 缩小 光刻 接触 图案 临界 尺寸 方法 | ||
【说明书】：
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