[发明专利]电子束曝光方法有效
| 申请号： | 200610026324.8 | 申请日： | 2006-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101063820A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 李正强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电子束 曝光 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种电子束曝光方法，其特征在于，包括：
a.将预存于电子控制装置(40)内的产品设计图形(50)分区，分为辅助图形(52)分区和目标图形(51)分区；
b.对不同分区内的图形单独曝光，所述辅助图形(52)分区的曝光次数小于目标图形(51)分区曝光次数。
2.根据权利要求1所述的电子束曝光方法，其特征在于：所述产品设计图形(50)包括复数个目标图形(51)和辅助图形(52)；所述复数个目标图形(51)和辅助图形(52)之间无固定相对位置。
3.根据权利要求2所述的电子束曝光方法，其特征在于：所述复数个目标图形(51)共同组成产品应用设计图形。
4.根据权利要求2所述的电子束曝光方法，其特征在于：所述辅助图形(52)包括生产编号、对位标记、图形边框及产品标识。
5.根据权利要求1所述的电子束曝光方法，其特征在于：所述辅助图形(52)分区和目标图形(51)分区的曝光量的总和相等。
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