[发明专利]一种无人分析实验室系统及其使用方法无效

专利信息
申请号: 200610027002.5 申请日: 2006-05-26
公开(公告)号: CN101078684A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 陈波 申请(专利权)人: 陈波
主分类号: G01N21/27 分类号: G01N21/27;G01N35/00
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 吴林松
地址: 201900上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 无人 分析 实验室 系统 及其 使用方法
【权利要求书】:

1、一种无人分析实验室系统,包括:代码输入系统、安全装置、试样冷却系统、加工系统、试样传输系统、缺陷检测系统、光谱分析仪、试样代码印刷系统、实验室中心计算机、辅助系统,相互之间有通信连接,其特征在于:所述光谱分析仪有两台,设置为可并行工作或一台工作另一台备用的结构。

2、根据权利要求1所述的分析实验室系统,其特征在于:所述光谱分析仪包括光谱仪、光谱仪计算机及标准化试样;光谱仪用于处理光强检测结果,同时具备自动校正和检查控样分析偏差的功能,标准化试样用于校准仪器偏差。

3、根据权利要求1所述的分析实验室系统,其特征在于:所述试样冷却系统,包括支架、放样台、探头、控制部件,其特征在于:还包括与放样台相邻设置的气冷管路结构和水冷管路结构,其与控制部件连接,各自具有开口与放样台上放置试样的位置相对。

4、根据权利要求3所述的分析实验室系统,其特征在于:还包括:红外探头,其设置于可检测到放样台上所放置的试样的位置;罩壳,为冷却装置的表面覆盖件;支架,为冷却装置的结构支撑部件;用以排放冷却水的冷却罩结合件;与气冷管路结构和水冷管路结构相连接的控制部件是电磁阀。

5、根据权利要求4所述的分析实验室系统,其特征在于:所述罩壳是1.0毫米-2.0毫米厚的钢板钣金成型的结构,支架是金属型材装配组合而成的结构。

6、根据权利要求1所述的分析实验室系统,其特征在于:所述代码输入终端安装在风动送样发送站输入窗口一侧;所述安全装置由透明安全护栏包围;所述试样冷却与加工系统包括一个冷却装置和一台试样加工设备;所述试样传输系统包括机械手主机、机械手基座、标样托盘系统;所述缺陷检测系统包括数码图形识别系统和图象处理软件系统及计算机。

7、根据权利要求6所述的分析实验室系统,其特征在于:所述实验室中心计算机将不同的系统连接成一个整体,包括试样加工设备PLC、机械手PLC、辅助设备PLC;所述辅助系统包括辅助插座,线缆槽、试样辅助水冷系统、内部压缩空气管道及阀门、内部氩气管道、阀门、氩气净化装置、计算机操作桌及其他附件、试样归档盒、稳压电源装置。

8、根据权利要求6所述的分析实验室系统,其特征在于:所述试样加工设备是一台铣削式试样表面铣削设备PAL-MIL。

9、根据权利要求6所述的分析实验室系统,其特征在于:所述光谱仪、各计算机、PLC连接设备控制系统远程进接口进行远程诊断。

10、权利要求1-9所述的无人分析实验室系统的使用方法,其特征在于:操作人员输入试样代码,代码经RS232接口传入中心计算机;中心计算机根据试样代码区分出试样种类并指示磨样机采用何种加工程序加工试样,同时也将代码传输给光谱仪分析计算机,中心计算机还将监控整个试样运行过程及设备状态;人员进出只能经过安全门,安全门一经打开系统自动进入停机状态,只有在人员离开并复位紧急停止按钮才可以恢复自动;试样冷却装置采用空冷与水冷相结合的冷却方式;使用所述数码图形识别系统改善经过磨样机加工的待检查试样表面光照度,使用图象处理系统及计算机处理所拍摄的试样表面图象,发现缺陷位置并进一步计算其光谱分析的最佳位置;使用光谱仪处理光强检测结果,自动校正和检查控样分析偏差,使用标准化试样校准仪器偏差;所述试样代码印刷系统采用标签粘贴印刷;所述实验室中心计算机负责接收光谱仪分析数据,将分析结果存放在中心计算机的数据库中,同时将数据传输给指定过程计算机,数据管理程序提供数据备份、检索、打印日常报表等功能。

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