[发明专利]电磁波屏蔽用片

权利要求书

1、一种电磁波屏蔽用片，具备透明基材、和积层在上述透明基材的一个面上的屏蔽层，其特征在于：该屏蔽层使用有机屏蔽材料；该有机屏蔽层包括溶剂和溶质，该溶质主要由有机基材、改性配料和导电屏蔽功能材料混合组成，该基材为高分子材料，该改性配料是有机化工原料；当上述材料按照重量份数合计180份时，基材100份、改性配料25-55份、导电屏蔽功能材料25-55份；该导电屏蔽功能材料包括乙炔碳黑、聚碳酸酯废料真空热处理变性碳黑、茂金属催化处理高分子材料和有机碳催化处理后再纳米化形成超细颗粒粉剂。

2、根据权利要求1所述的电磁波屏蔽用片，其特征在于：该有机屏蔽材料层周围设有边框。

3、根据权利要求1或2所述的电磁波屏蔽用片，其特征在于：该高分子材料是丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物或聚乙烯或聚丙烯或HP-PVC。

4、根据权利要求1或2所述的电磁波屏蔽用片，其特征在于：该有机化工原料包括二盐/三盐、醚类、硬脂类、软脂类、抗静电增塑剂和光敏化促进剂。

5、根据权利要求4所述的电磁波屏蔽用片，其特征在于：该二盐/三盐是三氧化二锑或氧化锌。

6、根据权利要求4所述的电磁波屏蔽用片，其特征在于：该醚类是十溴二苯醚。

7、根据权利要求4所述的电磁波屏蔽用片，其特征在于：该硬脂类是硬脂酸钡或硬脂酸。

8、根据权利要求4所述的电磁波屏蔽用片，其特征在于：该软酯类是石腊或液化石腊。

9、根据权利要求4所述的电磁波屏蔽用片，其特征在于：该抗静电增塑剂是邻苯二甲酸二辛酯或邻苯二甲酸二丁酯。

10、根据权利要求4所述的电磁波屏蔽用片，其特征在于：该光敏化促进剂是N-(乙氧基羰基苯基)-N’-甲基-N’-苯基甲醚或N-(乙氧基羰基苯基)-N’-乙基-N’-苯基甲醚。