[发明专利]使基于模型的光学近似修正更精确的方法

权利要求书

1.一种使基于模型的光学近似修正更精确的方法，在进行基于模型的光学近似修正之前，先进行基于规则的光学近似修正，其中基于规则的光学近似修正用来补偿模型预测数据和真实晶片数据之间的偏移量，其特征在于，包括以下步骤：

比较晶片的实际关键尺寸和由数据模型模拟得到的关键尺寸，发现数据模型稳定并且呈收敛性但是拟合误差超出预期范围，据此判断需要修正原来采用的基于模型的光学近似修正方法；

为不同的关键尺寸，空间间距以及线端根据实测和模拟结果用数学建模的方法作出模型适合残数误差表，据此生成相对保守的重新定位关键尺寸的数据表，其中，所述数学建模的方法为，以模型拟合和实际数据之间的差值作为所述模型适合残数误差表的值；

先用上述重新定位关键尺寸的表进行基于规则的光学邻近修正，其修正规则为，符合表中规定的间距以及宽度的关键尺寸的都用对应的数值进行修正，然后进行基于模型的光学邻近修正。