[发明专利]焊料凸块及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200610027588.5 申请日: 2006-06-12
公开(公告)号: CN101090099A 公开(公告)日: 2007-12-19
发明(设计)人: 靳永刚;王津洲;蒋瑞华 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L21/60;H01L21/28
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 焊料 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种焊料凸块,其特征在于,包括:在晶片(100)表面形成的焊盘(200);在所述焊盘(200)上依次形成的UBM层(700)、阻挡层(710)、焊接层(720);以及形成于所述焊接层(720)上的焊料凸点(800);所述UBM层(700)具有多层结构;所述UBM层(700)的最下层与焊盘(200)相连,其最上层与阻挡层(710)相连,所述UBM层(700)厚度范围为0.3~0.5微米。

2.根据权利要求1所述的焊料凸块,其特征在于:所述焊盘(200)材料为AL或Cu。

3.根据权利要求1所述的焊料凸块,其特征在于:所述UBM层(700)包括逐层沉积的Cr/Cu、Cr/CrCu/Cu、Ti/Cu、TiW/Cu或Ta/Cu。

4.根据权利要求2所述的焊料凸块,其特征在于:所述UBM层(700)形成于焊盘(200)上。

5.根据权利要求2所述的焊料凸块,其特征在于:所述UBM层(700)与焊盘(200)通过引线(730)连接。

6.根据权利要求5所述的焊料凸块,其特征在于:所述引线(730)材料为Cu。

7.根据权利要求1所述的焊料凸块,其特征在于:所述阻挡层(710)材料为Ni。

8.根据权利要求7所述的焊料凸块,其特征在于:所述阻挡层(710)厚度范围为1~2微米。

9.根据权利要求1所述的焊料凸块,其特征在于:所述焊接层(720)材料为Cu。

10.根据权利要求9所述的焊料凸块,其特征在于:所述焊接层(720)厚度范围为0.5~3微米。

11.根据权利要求1所述的焊料凸块,其特征在于:所述焊料凸点(800)材料为PbSn合金、高铅合金或锡的无铅合金中的一种材料。

12.一种焊料凸块制造方法,其特征在于,包括:

a.在晶片(100)上形成焊盘(200)和保护层(300);

b.在所述焊盘(200)和保护层(300)上形成一UBM层(700),所述UBM层(700)厚度范围为0.3~0.5微米;

c.在所述UBM层(700)上涂覆一光致抗蚀剂层(600),并图案化所述光致抗蚀剂层(600)形成露出局部UBM层的图形区;

d.在所述图形区内、UBM层(700)上形成一阻挡层(710);

e.在所述图形区内、阻挡层(710)上形成一焊接层(720);

f.移除所述光致抗蚀剂层(600),并刻蚀所述UBM层(700);

g.在所述焊接层(720)上形成焊料凸点(800)。

13.根据权利要求12所述的焊料凸块制造方法,其特征在于:所述保护层(300)具有一开口区(400),所述开口区(400)用以露出焊盘(200)表面。

14.根据权利要求12所述的焊料凸块制造方法,其特征在于:所述UBM层(700)形成于焊盘(200)上。

15.根据权利要求12所述的焊料凸块制造方法,其特征在于:所述UBM层(700)与保护层(300)之间形成有第一缓冲层(500)。

16.根据权利要求15所述的焊料凸块制造方法,其特征在于:所述UBM层(700)与焊盘(200)通过引线(730)连接,所述引线(730)粘附于所述保护层(300)或第一缓冲层(500)之上;所述引线(730)通过第二缓冲层(500)于外界隔离。

17.根据权利要求16所述的焊料凸块制造方法,其特征在于:所述引线(730)材料为Cu。

18.根据权利要求17所述的焊料凸块制造方法,其特征在于:所述第一缓冲层(500)具有与保护层(300)相同的开口区(400)且完全覆盖于所述保护层(300)上。

19.根据权利要求13所述的焊料凸块制造方法,其特征在于:所述开口区(400)通过刻蚀方式形成。

20.根据权利要求16所述的焊料凸块制造方法,其特征在于:所述UBM层(700)材料为Cr/Cu、Cr/CrCu/Cu、Ti/Cu、TiW/Cu或Ta/Cu。

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