[发明专利]一种深度钻孔中辅助去除孔壁铜工艺有效
| 申请号： | 200610028732.7 | 申请日： | 2006-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN1889811A | 公开（公告）日： | 2007-01-03 |
| 发明（设计）人： | 马夕松 | 申请（专利权）人： | 沪士电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/02 | 分类号： | H05K3/02;H05K3/04;H05K3/07 |
| 代理公司： | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人： | 陈丽新 |
| 地址： | 215301江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 深度 钻孔 辅助 去除 孔壁铜 工艺 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沪士电子股份有限公司，未经沪士电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610028732.7/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：高保真重低音耳机的震动器
- 下一篇：一氧化碳和甲烷一体化光纤传感测量系统
