[发明专利]一种化学机械研磨机台化学液供给装置有效
申请号: | 200610029775.7 | 申请日: | 2006-08-07 |
公开(公告)号: | CN101121239A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 王海军;王贝易;方精训;程晓华;刘艳平 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;H01L21/304;B24B57/02 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁纪铁;李隽松 |
地址: | 201206上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 机械 研磨 机台 供给 装置 | ||
1.一种化学机械研磨机台化学液供给装置,具有供给手臂和喷嘴,其特征在于,还具有:至少一汽缸,以控制所述供给手臂的横向运动;至少一个步进马达,以控制所述供给手臂的纵向运动;控制软件单元一,控制所述汽缸的横向运动;控制单元二,控制所述步进马达从而控制化学研磨液喷嘴的径向运动。
2.根据权利要求1所述的化学机械研磨机台化学液供给装置,其特征在于,所述汽缸与所述供给手臂通过传动轴相连,当汽缸延伸时推动供给手臂往里横向运动,当汽缸收缩时拉动手臂往外横向运动;所述步进马达与所述供给手臂通过传动轴或齿轮相连。
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