[发明专利]无机电致发光显示器绝缘介质及其制造方法

权利要求书

1.一种无机电致发光显示器绝缘介质，包括下介质层、上介质层；其特征在于，所述介质层为复合薄膜。

2.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述下介质层为多层结构的Al₂O₃/TiO₂复合薄膜。

3.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述上介质层为多层结构的Al₂O₃/TiO₂复合薄膜。

4.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述上介质层为Al_xTi_yO₂/Al₂O₃复合薄膜。

5.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述上介质层为多层结构的Al₂O₃/TiO₂/Al₂O₃复合薄膜。

6.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述下介质层为钛酸钡和钛酸锶复合薄膜。

7.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述下介质层为钛酸钡薄膜。

8.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述介质层为Al_xTi_yO_z薄膜。

9.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述下介质层为钛酸锶钡薄膜。

10.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述发光层为掺锰硫化锌。

11.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述下介质层为厚度在200-1000nm之间的钛酸钡薄膜。

12.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述下介质层为厚度在30-500nm之间的钛酸锶钡薄膜。

13.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述下介质层为厚度在300-1000nm之间的Al_xTi_yO_z薄膜。

14.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述上介质层为厚度在300-1000nm之间的Al_xTi_yO_z薄膜。

15.权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质，其特征在于，所述发光层的厚度在300nm——1200nm之间。

16.一种权利要求1所述的无机电致发光显示器绝缘介质的制造方法，其特征在于，介质的制造方法为双源脉冲电子束蒸发和共蒸发制备复合薄膜介质层的制造方法：

1)在电子束蒸发镀膜机的一个坩埚装Al₂O₃蒸发料，在反方向位置的另一个坩埚装TiO₂蒸发料，坩埚为Al₂O₃质，沉积时本底真空为2.5-3.5×10^-3Pa，基片温度控制在100℃，然后往真空室通入高纯O₂，气压保持在3.2×10^-2Pa；

2)启动Al₂O₃蒸发源，沉积速率控制在3.0·s^-1，到设计厚度后，关闭Al₂O₃蒸发源；

3)把基片转到反方向，启动TiO₂蒸发源，沉积速率控制在2.5·s^-1，如此反复步骤2)和3)，直到达到设定的总厚度后停止沉积。