[发明专利]采用旋胶和光刻工艺封装发光二极管的方法有效

专利信息
申请号: 200610029857.1 申请日: 2006-08-09
公开(公告)号: CN101123285A 公开(公告)日: 2008-02-13
发明(设计)人: 刘胜;陈明祥;罗小兵;甘志银 申请(专利权)人: 刘胜
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L21/50;H01L21/56
代理公司: 上海市华诚律师事务所 代理人: 李平
地址: 201203上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 采用 光刻 工艺 封装 发光二极管 方法
【权利要求书】:

1.一种采用旋胶和光刻工艺封装发光二极管的方法,主要包括:单色发光芯片、引线、荧光粉胶层、晶圆片基板,其特征在于所述荧光粉胶层采用旋胶工艺制作,所述旋胶工艺是在晶圆片基板旋转时滴入含有荧光粉的胶液,使胶液均匀涂覆于晶圆片基板上,形成一层厚度均匀的含荧光粉胶层,并采用光刻、显影、切割工艺完成LED封装。

2.根据权利要求1所述的采用旋胶和光刻工艺封装发光二极管的方法,其特征在于所述胶液为光敏性胶液。

3.根据权利要求1所述的采用旋胶和光刻工艺封装发光二极管的方法,其特征在于所述荧光粉胶层厚度为0.1~1.0mm。

4.根据权利要求1所述的采用旋胶和光刻工艺封装发光二极管的方法,其特征在于所述荧光粉胶液粘度为1000cP-5000cP。

5.根据权利要求1所述的采用旋胶和光刻工艺封装发光二极管的方法,其特征在于所述旋胶工艺中晶圆片转速与胶液粘度有关,一般控制在300-2000转/分。

6.根据权利要求1所述的采用旋胶和光刻工艺封装发光二极管的方法,其特征在于所述晶圆片基板为硅圆片或陶瓷片。

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