[发明专利]一种提高倒装焊芯片亮度的方法无效
申请号: | 200610030770.6 | 申请日: | 2006-09-04 |
公开(公告)号: | CN101140963A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
发明(设计)人: | 冯雅清;叶国光;应华兵;章加奇 | 申请(专利权)人: | 上海蓝宝光电材料有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L21/60 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人: | 翁若莹 |
地址: | 20161*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 倒装 芯片 亮度 方法 | ||
1.一种提高倒装焊芯片亮度的方法,其特征在于,将高反射率的金属取代传统高吸光金属电路、增大金属电路面积,从而降低硅基板的吸光区域,以及吸光的金球镀上一层高反射率金属,降低金属吸光,其方法为:
(1)首先用热反应炉使50~500μm厚的硅热沉基板(18)表面氧化,生成0.1~10um厚的一层二氧化硅,用曝光机光刻出占硅热沉基板(18)的表面面积在40%~95%的相邻两块二氧化硅膜(17),用1%~30%氢氟酸缓冲溶液将不需要的二氧化硅蚀刻掉;
(2)用蒸镀机蒸镀上一层0.1~10μm厚的高反射率的金属钛镍银于二氧化硅膜(17)上,用硝酸铁蚀刻出占硅热沉基板(18)的表面面积百分比在60%~98%的相邻两块钛镍银金属正负电极(15);
(3)其次在两块正负电极(15)表面用植球机分别植上金球(14),接着在两块正负电极(15)和金球(14)上用蒸镀机镀上一层0.1~10μm的高反射率金属层,然后通过1%~30%氢氟酸溶液蚀刻的金属层(16)黏附在正负电极(15)和金球(14)上;
(4)最后用邦定机将芯片倒置,使芯片电极(13)与金球(14)对准,通过50~300摄氏度加热、0.1~10W功率超声,使芯片电极(13)与金球(14)牢固结合。
2.根据权利要求1所述的一种提高倒装焊芯片亮度的方法,其特征在于,所述的金属层为银或铝层。
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