[发明专利]一种Ta2AlC纳米层状块体陶瓷及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200610046805.5 申请日: 2006-06-02
公开(公告)号: CN101081737A 公开(公告)日: 2007-12-05
发明(设计)人: 周延春;胡春峰;包亦望 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C04B35/56 分类号: C04B35/56;C04B35/622
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 代理人: 张志伟
地址: 110016辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 ta sub alc 纳米 层状 块体 陶瓷 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及单相纳米层状块体陶瓷及制备方法,具体为一种原位反应热压制备Ta2AlC纳米层状块体陶瓷及其制备方法。

背景技术

Mn+1AXn(M为过渡族金属,A为A组元素,X为C或N,n=1-3)具有层状的六方结构。自M.W.Barsoum等(美国陶瓷协会,J.Am.Ceram.Soc.79(1996)1953)通过反应热压技术首次合成块体Ti3SiC2以来,Mn+1AXn以其独特的特性吸引着世界上越来越多的科研工作者。简要说,Mn+1AXn相兼具陶瓷和金属的特点:低密度、低硬度、高模量、高断裂韧性、良好的抗热震性能和高温氧化阻力、良好的导电和导热性的特点,成为极具潜力的高温应用结构材料。到目前为止,已发现有40多种M2AX相,大部分的工作都围绕着致密体材料的制备和性能表征。

M.W.Barsoum等(冶金材料学报,Metall.Mater.Trans.A31(2000)1857)和X.H.Wang等(材料研究创新,Mater.Res.Innovat.5(2001)87)制备了Ti2AlC,研究了其热、电、塑性和抗腐蚀性能。I.Salama等(合金化合物,J.AlloyCompd.347(2002)271)制备了Nb2AlC,研究了其力学性能。W.B Tian等(材料手记,ScriptaMater.54(2006)841)制备了Cr2AlC,研究了其热和电学性能。Z.M.Sun等(固态通讯,Solid.State.Commun.129(2004)589)已经计算出了Ta2AlC的理论密度(11.52g/cm3)和弹性模量(318.6GPa)。

发明内容

本发明的目的在于提供一种原位反应热压制备致密度高、纯度高的Ta2AlC纳米层状块体陶瓷及其制备方法。

本发明的技术方案是:

一种Ta2AlC纳米层状块体陶瓷,由单相Ta2AlC组成。Ta2AlC纳米层状陶瓷属六方晶系,空间群为P63/mmc,晶体结构中Al与Ta-C-Ta链以弱共价键结合,易于受剪切力作用沿Al层发生变形,表现出塑性。通过原位反应热压技术所制备的单相Ta2AlC相对密度为98.5~99.5%,平均晶粒尺寸长度为10~15μm,宽为2~3μm。

所述纳米层状陶瓷是指其特殊的晶体结构,可以描述为:在接近密堆的Ta原子层中插入纯Al原子层,Ta原子层数为2,C原子填入由Ta组成的八面体间隙内;或者可描述为Ta6C八面体与Al原子层在垂直a轴方向周期堆垛。

一种原位反应热压制备Ta2AlC纳米层状块体陶瓷的方法,通过原料粉在高温炉中反应并施加压力使之致密化。

所述制备Ta2AlC纳米层状块体陶瓷的方法,以钽粉、铝粉、石墨粉为原料,原料粉的摩尔比为2∶(1+x)∶(1-y),其中0≤x≤0.3,0≤y≤0.3,干燥条件下在树脂罐中球磨10~20小时,过筛后装入石墨模具中冷压成型(10~20MPa),在真空或通有氩气的热压炉内烧结,升温速率为10~15℃/分钟,在1500~1700℃烧结,保温时间为20~120分钟,施加压力为20~40MPa。从而,制备出致密度高、纯度高的Ta2AlC单相陶瓷。

所述加入的钽粉、铝粉、石墨粉粒度范围为200~600目;所述烧结方式为热压烧结;所述烧结气氛为真空(真空度为10-4~10-2MPa)或氩气;所述混料方式为在干燥条件下树脂罐中球磨。

本发明中,原料粉之所以采用摩尔比为钽粉∶铝粉∶石墨粉=2∶(1+x)∶(1-y),其中0≤x≤0.3,0≤y≤0.3,接近于其化学计量比2∶1∶1,是由于在合成过程中采用的烧结温度不同和升温速率不同,Ta和Al在烧结过程中的少量损失也有不同,但采用此范围内的成分,均可制备较纯的Ta2AlC。

本发明的优点是:

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