[发明专利]彩色滤光片及其制作方法与液晶显示装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610060395.X 申请日: 2006-04-19
公开(公告)号: CN101059575A 公开(公告)日: 2007-10-24
发明(设计)人: 詹家明;卓宏升 申请(专利权)人: 群康科技(深圳)有限公司;群创光电股份有限公司
主分类号: G02B5/23 分类号: G02B5/23;G02F1/1335;G02F1/136;H01L27/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 彩色 滤光 及其 制作方法 液晶 显示装置 制造 方法
【说明书】:

【技术领域】

发明涉及一种彩色滤光片的制作方法与液晶显示装置的制作方法。

【背景技术】

液晶显示装置是一种被动式显示装置,为达到彩色显示的效果,需为其提供一彩色滤光片,其作用是为了液晶显示装置提供色彩,配合薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)阵列及其间的液晶等其它元件而显示不同的彩色影像。

请参阅图1,是一种现有技术的彩色滤光片制作方法示意图。该彩色滤光片20制作方法包括:制作一玻璃基层24;在玻璃基层24表面形成一黑色矩阵23;在该黑色矩阵23间的间隔部(未标示)形成由红(R)、蓝(B)、绿(G)三种着色单元组成的着色层22;然后,在该着色层22表面形成一透明电极层21,该透明电极层21为氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)。

该玻璃基层24作为上述元件的载体。重复规则排列该三种着色单元在该玻璃基层24上以分别透过红、蓝、绿三原色光,阻挡其它波长的光透过。该黑色矩阵23设置在该三着色单元之间,其作用是用来遮断透过三着色单元间的光线,防止光线泄漏且阻止着色材料混合,而透明电极层21则与一TFT阵列(图未示)配合控制该着色层22的各着色单元透过光线的多少以显示不同的颜色。

该黑色矩阵23一般由铬及其化合物组成,其光学性能取决于其光学浓度(Optical Density,OD)及反射率。OD代表黑色矩阵23的遮光能力,而反射率则指黑色矩阵两面的光线反射率。该黑色矩阵23的OD值越高且反射率越低,其应用于液晶显示装置时则可使该液晶显示装置显示对比度高,图像清晰,反之则显示效果差。当黑色矩阵23应用于液晶显示装置时,其会受到外界光及液晶显示装置背光的照射,由铬及其化合物组成的黑色矩阵OD值高,其反射率过高,会造成反射光过多而产生光线干扰问题。当该黑色矩阵23反射自液晶显示装置的背光,该反射的光线照射至玻璃基层上的阵列元件,则会产生光电流效应,导致显示品质下降,如引起对比下降,闪烁现象等缺陷。

另一种采用由铬及其化合物制成黑色矩阵的彩色滤光片制作方法如图2所示。请参阅图2,该彩色滤光片1制作方法包括:制作一透明玻璃基层2;形成一黑色矩阵9、一保护层6及一透明电极层7。其中该黑色矩阵9系将一第一抗反射膜3、一第二抗反射膜4及一遮光层5依次形成在该透明玻璃基层2上而成。该第一抗反射膜3与该第二抗反射膜4包含不同的金属化合物,膜厚度的范围为20~60nm。该遮光层5厚度的范围为50~150nm,其包含铬、钼、钨或镍,且不同于该第一抗反射膜3与该第二抗反射膜4的金属。另外,该透明玻璃基层2的另一侧还形成一偏光片8。

该制作方法是利用第一抗反射膜3、第二抗反射膜4及遮光层5表面的各反射光干涉相消原理降低反射率,然而,由于该方法制作的彩色滤光片1的遮光层5包含铬等金属,其对来自背光的光线反射率过高,当该彩色滤光片1应用在液晶显示装置时,遮光层5会反射过多的背光而产生干扰现象,使得该液晶显示装置的光学性能受到影响。

因此,改进彩色滤光片的结构及其制作方法与相应液晶显示装置的结构及其制作方法,降低该黑色矩阵的光反射率,提高显示画面的显示品质。

【发明内容】

为解决上述彩色滤光片具较高反射率、光学性能不佳的问题,有必要提供一种具较低反射率、较高光学性能的彩色滤光片。

为解决上述彩色滤光片具较高反射率、光学性能不佳的问题,有必要提供一种具较低反射率、较高光学性能彩色滤光片的制作方法。

为解决上述液晶显示装置具较低光学性能的问题,有必要提供一种具较高光学性能的液晶显示装置。

一种彩色滤光片,其包括一基层、一设置在该基层表面的黑色矩阵、一设置在该黑色矩阵间隔处的着色层、一设置在该黑色矩阵表面的消光层及一透明导电层,该着色层与该黑色矩阵在该基层表面交替分布,该透明导电层覆盖该着色层及该消光层的表面。

一种彩色滤光片的制作方法包括以下步骤:提供一基层;在该基层表面制作一黑色矩阵;在该基层表面形成一着色层,该着色层与该黑色矩阵于该基层表面交替分布;在该黑色矩阵的表面形成一消光层;在该消光层及着色层上形成一透明导电膜。

一种彩色滤光片的制作方法包括以下步骤:提供一基层;在该基层表面制作一黑色矩阵;在该黑色矩阵的表面形成一消光层;在该基层表面形成一着色层,该着色层与该黑色矩阵在该基层表面交替分布;在该消光层及着色层上形成一透明导电膜。

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