[发明专利]用于多次曝光过程的基于模型的几何分解方法及相应产品有效
| 申请号： | 200610064227.8 | 申请日： | 2006-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN101008788A | 公开（公告）日： | 2007-08-01 |
| 发明（设计）人： | R·J·索查 | 申请（专利权）人： | ASML蒙片工具有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F17/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘春元;陈景峻 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 多次 曝光 过程 基于 模型 几何 分解 方法 相应 产品 | ||
【说明书】：
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