[发明专利]基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件和磁逻辑元件阵列有效
申请号: | 200610072795.2 | 申请日: | 2006-04-11 |
公开(公告)号: | CN101055915A | 公开(公告)日: | 2007-10-17 |
发明(设计)人: | 曾中明;魏红祥;姜丽仙;韩秀峰;彭子龙;詹文山 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;G11C11/16;H03K19/18 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高存秀 |
地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 双势垒 磁性 隧道 逻辑 元件 阵列 | ||
1、一种基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件,该逻辑元件包括四条输入信号线、一条输出信号线和隧道结单元;每条输入信号线中流过的电流强度均相同,分别将“0”和“1”分配给它们,利用输入信号A、B、C、D的组合,决定隧道结中磁性层的磁化方向,将通过双势垒磁性隧道结的磁电阻效应的大小作为输出信号,其特征在于:所述的隧道结单元是双势垒磁性隧道结单元,其包括:
一个下部磁性层;
一个形成于所述下部磁性层之上的第一隧道势垒层;
一个形成于所述第一隧道势垒层之上的中间磁性层;
一个形成于所述中间磁性层之上的第二隧道势垒层;
一个形成于第二隧道势垒层之上的上部磁性层;
所述的三个磁性层的组成材料为铁磁性材料、半金属磁性材料或磁性半导体材料,各磁性层的厚度均为2~10nm;
所述的隧道势垒层的组成材料为选自MgO、Al2O3、AlN、Ta2O5或HfO2,其厚度为0.8~3.0nm。
2、如权利要求1所述的基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件,其特征在于:
所述的铁磁性材料为3d过渡族磁性金属、铁磁性合金或稀土金属;
所述的半金属磁性材料为Fe3O4、CrO2、La0.7Sr0.3MnO3或Co2MnSi;
所述的磁性半导体材料为Fe、Co、Ni或V;
所述的磁性半导体材料或者为Mn掺杂的ZnO、TiO2、HfO2或SnO2;
所述的磁性半导体材料或者为Mn掺杂的GaAs、InAs、GaN或ZnT。
3、如权利要求2所述的基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件,其特征在于:所述的铁磁性合金为稀土金属铁磁合金。
4、如权利要求2所述的基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件,其特征在于:
所述的铁磁性材料为Fe、Co、Ni、Co-Fe、Co-Fe-B、Ni-Fe、Co-Fe-Ni、Gd-Y、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho、或Er。
5、如权利要求1、2或4所述的基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件,其特征在于:所述的隧道结单元,还包括,
在所述的下部磁性层下的第一反铁磁性层;
在所述的上部磁性层上的第二反铁磁性层;
所述的第一反铁磁性层和第二反铁磁性层的厚度均为7~20nm。
6、如权利要求5所述的基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件,其特征在于:所述的第一反铁磁性层和第二反铁磁性层的组成材料均为Ir、Fe、Rh、Pt或Pd与Mn的合金材料、CoO、NiO、或PtCr。
7、如权利要求1、2或4所述的基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件,其特征在于:所述的隧道结单元,还包括,
在所述的下部磁性层下还依次包括Ru层、第三磁性层和第一反铁磁性层;
在所述的上部磁性层上还依次包括Ru层、第四磁性层和第二反铁磁性层;
所述的第一反铁磁性层和第二反铁磁性层的厚度均为7~20nm;
所述的第三磁性层和第四磁性层的组成材料为铁磁性材料、半金属磁性材料或磁性半导体材料,各磁性层的厚度均为2~10nm;
所述的Ru层的厚度为0.7~0.9nm。
8、如权利要求7所述的基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件,其特征在于:所述的第一反铁磁性层和第二反铁磁性层的组成材料均为Ir、Fe、Rh、Pt或Pd与Mn的合金材料、CoO、NiO、或PtCr。
9、一种基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件阵列化了的磁逻辑元件阵列,是将任意多个权利要求1至8之一所述的基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件按照阵列排列,并使逻辑输入信号或读出电流流过磁逻辑元件。
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