[发明专利]多层光谱纯滤光片与光刻设备、装置制造方法以及装置有效
| 申请号： | 200610073325.8 | 申请日： | 2006-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN1841098A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | V·Y·巴尼内;J·H·J·穆尔斯;L·A·肖梅洛克;N·N·萨拉施谢科 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多层 光谱 滤光 光刻 设备 装置 制造 方法 以及 | ||
【权利要求书】：
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