[发明专利]抛弃式电化学感测试片及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610074774.4 申请日: 2006-04-11
公开(公告)号: CN101055262A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 吕慧菁 申请(专利权)人: 禅谱科技股份有限公司;华广生技股份有限公司
主分类号: G01N27/30 分类号: G01N27/30
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 任永武
地址: 台湾省台中*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 抛弃 电化学 测试 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种抛弃式电化学感测试片,其包括:

至少一绝缘薄片;

一第一导电薄膜,其置放于该绝缘薄片上,且该第一导电薄膜具有一第一端及一第二端;以及

一第一绝缘层,其置放于该第一导电薄膜上,而该第一绝缘层覆盖该第一端,且该第二端形成一信号输出端,其中该第一端介于该绝缘薄片及该第一绝缘层中间,而于其间外露一第一导电截面,以作为该电化学感测试片的一电极的一工作面。

2.如权利要求1所述的试片,其特征在于:

该第一绝缘层为一绝缘薄层,且该绝缘薄层完全覆盖该第一导电薄膜的该第一端;

该第二端为一预留的导电区域,其未被该第一绝缘层所覆盖,以形成该信号输出端;

外露的该第一导电截面是对该试片进行一纵向裁切而得;及/或

置放该第一导电薄膜是借助一印刷、一蒸镀、一电镀或一黏贴的方式,而该试片还具有一第二导电薄膜,且于该绝缘薄片及该第一绝缘层中间外露一第二导电截面。

3.如权利要求1所述的试片,其特征在于:

该绝缘薄片为一高分子聚合物,而该试片还具有一第二及一第三导电薄膜,且于该绝缘薄片及该第一绝缘层中间外露一第二及一第三导电截面;

该第一绝缘层为一高分子聚合物,而该试片还具有一第二导电薄膜及一第二绝缘层,且于该绝缘薄片及该第二绝缘层中间外露一第二导电截面;及/或

该高分子聚合物为一热塑性塑胶或一热固性塑胶。

4.如权利要求1所述的试片,其特征在于该第一导电截面是借助一物理或一化学方式以进行加工而得,其特征在于:

该物理方式为一裁切、一冲模、一钻孔、一水刀或一雷射的方式;

该化学方式为一化学蚀刻、一光蚀刻、一化学分解或一高温燃烧的方式;及/或

经过加工而得的该电极为一超微电极。

5.如权利要求1所述的试片,其特征在于该第一导电薄膜的一材质为:

一碳、铜、银、金、铑、钌、锰、铁、白金、锇、镍、钴、汞、铱或铋;

该第一导电薄膜的一材质为一含碳、铜、银、金、铑、钌、锰、铁、自金、锇、镍、钴、汞、铱或铋的氧化物及错化合物;或

该第一导电薄膜的一材质为一含碳、铜、银、金、铑、钌、锰、铁、白金、锇、镍、钴、汞、铱或铋的合金。

6.如权利要求1所述的试片,其特征在于该电极为一工作电极、一辅助电极或一参考电极。

7.一种抛弃式电化学感测试片,其具有:

一导电薄片,该导电薄片具有一第一端及一第二端;

一第一绝缘层,其置放于该导电薄片的一第一面;以及

一第二绝缘层,置放于该导电薄片的一第二面,且该第二端形成一信号输出端,其中该第一端介于该第一及该第二绝缘层中间,而于其间外露一导电截面,以作为该电化学感测试片的一电极的一工作面。

8.一种抛弃式电化学感测试片,其具有:

一绝缘薄片;

一第一导电薄膜,其置放于该绝缘薄片的一第一面上,且该第一导电薄膜具有一第一前端及一第一后端;

一第一绝缘层,其置放于该第一导电薄膜上,且该第一后端形成一信号输出端;

一第二导电薄膜,其置放于该绝缘薄片的一第二面上,且该第二导电薄膜具有一第二前端及一第二后端;以及

一第二绝缘层,其置放于该第二导电薄膜上,且该第一及该第二后端形成一信号输出端,其中该第一及该第二前端介于该绝缘薄片与该第一及该第二绝缘层中间,而于其间外露一第一及一第二导电截面,以作为该电化学感测试片的一电极的一工作面。

9.如权利要求8所述的试片,其特征在于还包含一第三导电薄膜,其置放于该绝缘薄片的一第一面上,且于该绝缘薄片及该第一绝缘层中间外露一第三导电截面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于禅谱科技股份有限公司;华广生技股份有限公司,未经禅谱科技股份有限公司;华广生技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610074774.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top