[发明专利]使用测试特征检测光刻工艺中的焦点变化的系统和方法有效
| 申请号： | 200610075436.2 | 申请日： | 2006-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN1862385A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | 金淏哲 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 测试 特征 检测 光刻 工艺 中的 焦点 变化 系统 方法 | ||
【权利要求书】：
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