[发明专利]在至少投射光学部件和晶片上具有相等压力的浸入式光刻装置和方法有效
| 申请号： | 200610082751.8 | 申请日： | 2006-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN1877455A | 公开（公告）日： | 2006-12-13 |
| 发明（设计）人： | S·J·霍姆斯;M·C·哈基;D·V·霍拉克;P·H·米切尔;古川俊治 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 于静;刘瑞东 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 至少 投射 光学 部件 晶片 具有 相等 压力 浸入 光刻 装置 方法 | ||
【说明书】：
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