[发明专利]高分子胚体的复区成型加工方法及其模具

权利要求书

1、一种高分子胚体的复区成型加工方法，包含有下列主要步骤：

a、取用一模具；该模具具有一第一模室，一第二模室，是与该第一模室相隔开来，并使该第一模室一侧室壁形成的第一对接壁面与该第二模室一侧室壁形成的第二对接壁面彼此呈平行，一第三模室，其形状为各该第一、第二模室形状的组合；

b、使该模具位于一第一合模状态上，而于该模具内部形成各自独立的该第一与该第二模室；

c、使具不同组成的原料被分别容纳于各该第一、第二模室中，而被模塑成第一及第二初胚，并使各该初胚分别由对应模室的对接壁面形成可相互对接的接合端面；

d、使该模具位于一第二合模状态上，形成该第三模室，同时使于该c步骤中所模塑的各该第一、第二初胚容置于该第三模室中与本身形状对应的位置上，并以各该接合端面相向对接；

e、使各该第一、第二初胚于该第三模室中经化学反应程序，用以模制成型与预定成型品形状相同的形状。

2、依据权利要求1所述的高分子胚体的复区成型加工方法，其特征在于：各该第一、第二初胚的接合端面呈对应互补的斜面。

3、依据权利要求2所述的高分子胚体的复区成型加工方法，其特征在于：各该第一、第二初胚接合端面的倾斜角度小于10度。

4、一种用于权利要求1所述高分子胚体的复区成型加工方法的模具，包含有：

一上模，具有一上板身，一开口朝下的上模穴；

一下模，位于该上模的下方，具有一下板身，一开口朝上的下模穴；

一可移出的中模，介于各该上、下模之间，具有一中板身；

一第一模室，当该上模与该中模彼此叠合贴接时，由该上模穴因开口端受该中模封闭所形成；

一第二模室，当该中模与该下模彼此叠合贴接时，由该下模穴因开口端受该中模封闭所形成；

一第三模室，当该中模移出后，当该上模与该下模彼此叠合贴接时，各该上、下模穴彼此相向对接所形成；

其特征在于：

该中模更包含有一上影模穴，具与该上模穴形状的一部对应的形状，而凹设于该中板身的下侧端面上，一下影填块，具有与该下模穴的一部形状相同且得与该下模穴的一部为互补的形状，而沿该上影模穴一侧穴壁延伸突设于中板身的下侧端面上，从而当该中模与该下模叠合贴接时，使该上影模穴与该下模穴的他部开口对接，并使该下影填块填置于该下模穴的一部中，形成该第二模室，一下影模穴，具与该下模填块相同的形状，凹设于该中板身的上侧端面上，一上影填块，具与该上影模穴相同的形状，而沿该下影模穴一侧穴壁延伸突设于该中板身的上侧端面上，从而当该中模与该上模叠合贴接时，使该下影模穴与该上模穴的他部开口对接，并使该上影填块填置于该上模穴的一部中，形成该第一模室。

5、依据权利要求4所述的模具，其特征在于：该中模位于该上影模穴一侧穴壁及沿的延伸的该下影填块的一侧块壁上，以及位于该下影模穴一侧穴壁及沿的延伸的该上影填块的一侧块壁上的两对接壁面，彼此呈平行对应。

6、依据权利要求5所述的模具，其特征在于：各该对接壁面呈斜面。

7、依据权利要求6所述的模具，其特征在于：各该对接壁面的倾斜角度小于10度。