[发明专利]发光装置无效
申请号: | 200610084473.X | 申请日: | 2006-05-23 |
公开(公告)号: | CN101079460A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | 张绍雄;陈育川 | 申请(专利权)人: | 台达电子工业股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L51/50;H01L23/488;H01L23/28;H01S5/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 | ||
1.一种发光装置,包括:
一基板,该基板表面具有一提升出光效率的结构;
至少一发光组件,设置于该基板上的一预设位置处;
一保护层,包覆该发光组件;
一绝缘层,设置于该预设位置处,位于该基板与该发光组件之间;
一金属层,设置于该绝缘层之上;以及
一连接层,设置于该金属层与该绝缘层之间。
2.一种发光装置,包括:
一基板,该基板表面具有一提升出光效率的凹槽,该提升出光效率的凹槽具有一曲弧表面;
至少一发光组件,设置于该基板上的一预设位置处;以及
一保护层,包覆该发光组件,
其中该凹槽具有一焦点,该发光组件位于该预设位置处时,使该发光组件位于该凹槽的该焦点上。
3.如权利要求1或2所述的发光装置,其中该基板的材质为具热导性的材料。
4.如权利要求3所述的发光装置,其中该具热导性材料为铝、镁、钛或其合金。
5.如权利要求1所述的发光装置,该绝缘层的材质选自铝、镁及钛至少其中之一的氧化物、氮化物或碳化物。
6.如权利要求1所述的发光装置,其中该金属层的材质为银、金、铜、铝及其合金至少其中之一。
7.如权利要求1所述的发光装置,其中该发光组件直接与该金属层电连接。
8.如权利要求1所述的发光装置,其中该连接层的材质选自铬、钛、镍及其合金至少其中之一。
9.如权利要求2所述的发光装置,其还包括绝缘层,位于该基板上的该提升出光效率的凹槽之外,其中该绝缘层的材质选自铝、镁及钛至少其中之一的氧化物、氮化物或碳化物。
10.如权利要求9所述的发光装置,其还包括一引线框架,其具有一第一电极接脚与一第二电极接脚设置于该绝缘层之上,并分别与该发光组件电连接。
11.如权利要求1或9所述的发光装置,其中该绝缘层通过氧化、氮化或碳化该基板表面而形成,或通过蒸镀方式、溅镀方式、化学气相淀积方式、光刻工艺或网版印刷工艺的方式而形成。
12.如权利要求9所述的发光装置,其还包括一金属层,设置于该绝缘层之上,该发光组件直接与该金属层通过至少一导线电连接。
13.如权利要求12所述的发光装置,其还包括至少一焊盘,其中该焊盘与该金属层通过至少一导线电连接。
14.如权利要求12所述的发光装置,其还包括一连接层,设置于该金属层与该绝缘层之间,用以使该金属层可以设置于该绝缘层之上,其中该连接层材质选自铬、钛、镍及其合金至少其中之一。
15.如权利要求1或14所述的发光装置,其中该连接层具有黏着性。
16.如权利要求1所述的发光装置,其中该提升出光效率的结构为一凹槽。
17.如权利要求2或16所述的发光装置,其中该凹槽的形状选自于下列群组:圆球形、椭圆球形与抛物体形。
18.如权利要求16所述的发光装置,其中该凹槽具有一焦点,该发光组件位于该预设位置处时,使该发光组件位于该凹槽的该焦点上。
19.如权利要求1所述的发光装置,其还包括一反射层,设置于该提升出光效率的结构上,其中该反射层的材质包括银、金或镍。
20.如权利要求2所述的发光装置,其还包括一反射层,设置于该提升出光效率的凹槽上,其中该反射层的材质包括银、金或镍。
21.如权利要求1或2所述的发光装置,其中该发光组件为一发光二极管。
22.如权利要求21所述的发光装置,其中该发光二极管为一激光二极管或一有机发光二极管。
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