[发明专利]韭菜有机化种植方法

权利要求书

1.韭菜有机化种植方法，其特征在于其包括如下步骤：

(1)采用环保无污染的杀灭有害生物的方法处理育苗棚室；

(2)选用优良的抗耐病虫的韭菜品种，采取育苗块/穴盘/苗床等方式播种韭菜育苗；

(3)在移栽之前的5-10天深翻移栽田的土壤250-500mm，并在施入有机肥后悬翻均匀；

(4)按照每穴3-10株，行距150mm-400mm，株距50mm-250mm的密度向深翻过的田地中移栽韭菜苗，然后对其实施正常管理和割收，需要时追施有机肥，每次割收后用人工彻底清除土壤中掉落韭菜叶和杂草；

(5)在一个种植季节的最后一刀韭菜割收完毕后，深翻移栽田的土壤250-500mm，将土壤中杂草、韭菜根系及植株残体全部清除，集中进行太阳能杀灭有害生物或生物发酵有害生物处理。

2.根据权利要求1所述的韭菜有机化种植方法，其特征在于所述步骤(1)中环保无污染的杀灭有害生物的方法为太阳能杀灭有害生物的方法或臭氧杀灭有害生物的方法，太阳能杀灭有害生物方法为：

深翻育苗棚室内的土壤250-500mm，然后在深翻过的土壤上作垄，垄高为300mm-600mm，垄的底部宽为400mm-700mm，相邻二垄之间的距离为800mm-1400mm，根据覆地薄膜的幅度作环绕所述深翻过的上壤的压膜沟，压膜沟的宽度在50mm以上，深度在40mm以上，将覆地薄膜覆盖在垄的顶部，将覆地薄膜的周边埋入压膜沟内，保留至少一个灌水口，然后从灌水口处向垄沟内灌水，灌水的高度为400mm-600mm，然后将灌水口处的覆地薄膜埋入压膜沟内，关闭育苗棚室的所有通风口和门窗，并保持7-50天，将覆地薄膜从垄上撤除，向土壤内施加生物菌肥；

所述臭氧杀灭育苗棚室中所有暴露表面上的有害生物的方法为：

令臭氧发生装置产生臭氧的速度为每亩地10克/小时，并保持2-3小时，或者产生臭氧速度为每亩地15克/小时，并保持1-2小时；然后将臭氧发生装置悬挂于育苗棚室中高处将臭氧输送出去，使之彻底杀灭育苗棚室中所有暴露表面上的病菌等有害生物；

所述臭氧杀灭育苗棚室内土壤中的有害生物的方法为：深翻育苗棚室内的土壤250mm-500mm，破碎土壤中粒径在10mm以上的颗粒，并向土壤中洒水或喷水，令土壤中的含水量保持在55％-75％，在育苗棚室内的田地上作垄，垄高为300mm-600mm，垄的底部宽为400mm-700mm，相邻二垄之间的距离为800mm-1400mm，各垄沟之间相互联通，贴着多个垄的顶部覆盖一层覆地薄膜，并将覆地薄膜的周边埋在压膜沟内或用物体压实，向覆地薄膜下方的垄沟内输入臭氧，输入臭氧的速度为每亩地10克/小时，并保持90-150小时，或者是输入臭氧的速度为每亩地15克/小时，并保持60-100小时，或者是输入臭氧的速度为每亩地20克/小时，并保持45-75小时，打开覆盖在垄的顶部的覆地薄膜，检测育苗棚室内的土壤中存活的各种有害生物的数量；如果检测的土壤中存活的各种有害生物的数量的数据不合格，再次深翻育苗棚室内的田地的土壤250mm-500mm，破碎土壤中粒径在10mm以上的大块颗粒，并向土壤中洒水或喷水，令土壤中的含水量保持在55％-75％，然后在田地上作堤，堤高为100mm-500mm，并贴着堤的顶部和土壤的表面覆盖一层覆地薄膜，并将覆地薄膜的周边埋在压膜沟内或用物体压实，然后向覆地薄膜下方的堤内输入臭氧，输入臭氧的速度为每亩地10克/小时，并保持90-150小时，或者是输入臭氧的速度为每亩地15克/小时，并保持60-100小时，或者是输入臭氧的速度为每亩地20克/小时，并保持45-75小时，然后打开覆盖在堤的顶部和土壤的表面的覆地薄膜，再次检测土壤中存活的各种有害生物的数量；如果再次检测育苗棚室内的土壤中存活的各种有害生物的数量的数据不合格，重复至少一次上述的方法，直至合格，然后向土壤内施加生物菌肥。

3.根据权利要求2所述的韭菜有机化种植方法，其特征在于所述步骤(4)中包括在移栽田中架设诱杀黄板和/或诱杀灯和/或喷施生物药剂。