[发明专利]用于吸附六价铬离子的吸附剂及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200610087136.6 申请日: 2006-06-13
公开(公告)号: CN101088597A 公开(公告)日: 2007-12-19
发明(设计)人: 齐涛;李俊宁;王丽娜;刘长厚 申请(专利权)人: 中国科学院过程工程研究所
主分类号: B01J20/22 分类号: B01J20/22
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人: 王凤华
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 吸附 六价铬 离子 吸附剂 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种用于吸附六价铬离子的吸附剂的制备方法,包括以下步骤:

(1)将硅基多孔材料载体加入到甲苯中,再加入有机硅烷偶联剂,常温搅拌或在溶剂回流温度下反应8~48小时,反应过程用N2保护;反应后经过滤,洗涤,得到中间产物;

所述硅基多孔材料载体为多孔硅胶载体或有序介孔二氧化硅载体;

所述有机硅烷偶联剂为γ-氯丙基三甲氧基硅烷或γ-氯丙基三乙氧基硅烷;

所述硅基多孔材料载体与有机硅烷偶联剂的比例为1g载体/1~5mL有机硅烷偶联剂;

所述硅基多孔材料载体与所述有机溶剂的混合比例为1g硅基多孔材料载体加入10~100mL的有机溶剂;

(2)将步骤(1)的中间产物在有机溶剂中与杂环化合物混合均匀,在溶剂回流温度下反应,反应过程用N2保护;反应后经过滤,洗涤,得到含杂环化合物功能基团的用于吸附六价铬离子的吸附剂;

所述的有机溶剂为乙腈或乙腈与三乙胺的混合溶液;

所述的杂环化合物为含氮的哌啶、三氮唑或三唑钠杂环化合物;

所述的中间产物与所述的杂环化合物的比例为1g中间产物/0.002~0.025mol杂环化合物;

所述中间产物与有机溶剂的比例为1g中间产物加入10~100mL的有机溶剂。

2、如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述硅基多孔材料载体的比表面积为300~1500m2/g,孔径1~100nm,孔容0.4~2mL/g。

3、如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的有序介孔二氧化硅材料为硅胶、SBA或MCM系列有序介孔分子筛;其中SBA和MCM系列有序介孔分子筛是分别照美国加州大学圣巴巴拉分校和美国Mobil公司的制备方法合成。

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