[发明专利]基于桶的跟踪算法有效

专利信息
申请号: 200610088920.9 申请日: 2006-07-26
公开(公告)号: CN101114306A 公开(公告)日: 2008-01-30
发明(设计)人: 李志梁;李剑宇;李桢荣;侯劲松;苏毅 申请(专利权)人: 北京中电华大电子设计有限责任公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 10001*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 跟踪 算法
【说明书】:

技术领域

基于桶的跟踪算法(BucketTrace算法)属于集成电路计算机辅助设计领域,尤其涉及版 图验证领域。

背景技术

版图与原理图一致性检查(LVS-Layout Versus Schematic)用以确认电路版图结构是 否与其原理图一致。LVS本质上是对两个图进行同构比较,涉及到的算法较多,但最重要的 两个算法是跟踪算法和划分算法。LVS的基本思想是:在有匹配点的情况下使用跟踪算法, 在没有匹配点的情况下使用划分算法获得新的匹配点,然后再从新的匹配点出发继续跟踪, 如此反复,直至Layout和Schematic全部匹配或无新的匹配点为止。

跟踪(Trace)算法基于图的深度遍历。跟踪算法需要初始匹配点,初始匹配点通常可由 用户指定或由LVS根据电路网表的特点生成。跟踪算法从初始匹配点出发,开始对网表的比 较。在匹配点的周围,对只与该匹配点有关且具有唯一性的结点(包括Instance和Net)进行 匹配,这样就会产生新的匹配点,记下新产生的匹配点,以后可从这些匹配点出发去找新的 匹配点。跟踪算法的优点是效率高,但不能处理对称电路和并行路径。

划分(Partition)算法用于获得新的匹配点,其基本思想是:按照一定的规则进行划分, 划分的结果是形成一些分组,分组的规模比原来的网表要小,对这些分组继续划分下去,若 组中只有一个结点对,则这两个结点得以匹配。通常采用的划分算法是Gemini/GeminiII, 即对Layout和Schemaic两个图中的Instances和Nets进行签名,如果不能区分,则采用反 复签名的方法或引入签名半径来解决。“反复签名”的问题是存在错误传递;故通常采用“引 入签名半径”的方法,但这种方法的缺点是对签名函数要求很高且计算量大,另外在签名时 须记录每个Instance/Net的“波前”,故空间复杂度高。

参考文献:

[1]C.Ebeling,Gemini,Proceedings of ICCAD,November,1983.

[2]C.Ebeling,GeminiII:A second generation layout validation program,in Proc.ICCAD,1988. 基本概念

(1)LVS:版图与原理图一致性检查(Layout Versus Schematic)。

(2)Instance:指的是单元内部的器件,如电阻R1、R2、...,Mos管M1、M2、...。Instance 通过它的Pin连接到Net。

(3)Net:指的是单元内的线网,Net通过Instance的Pin连接到Instance。

(4)InstanceBucket:由Layout和Schematic中的Instance组成的桶。

(5)NetBucket:由Layout和Schematic中的Net组成的桶。

(6)奇异桶(OddBucket):桶中Layout的Instance/Net数等于0而Schematic的Instance /Net数大于0;或桶中Layout的Instance/Net数大于0而Schematic的Instance/ Net数等于0。

(7)BucketSet:桶的集合。

(8)匹配点:匹配的Instance或Net。

(9)局部比较:在图的局部进行比较,缩小了规模,降低了空间复杂度。

发明内容

本发明针对Gemini/GeminiII划分算法对签名函数要求很高、计算量大且空间复杂度高 的缺点提出一种新的基于桶的跟踪算法(BucketTrace),BucketTrace可以同时完成跟踪和划 分的功能,其优点不存在错误传递,对签名函数的要求较低,时间空间复杂度小。

本发明采用已有跟踪算法和划分算法的基本原理,将跟踪算法基于匹配点跟踪扩展到基 于桶跟踪,将跟踪算法从匹配点出发找唯一性的结点扩展到从桶出发按Instance的类型或 Net的度和签名值相等的原则分组生成新的桶。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中电华大电子设计有限责任公司,未经北京中电华大电子设计有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610088920.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top