[发明专利]非线性光学活性有机硅聚合物及其制备方法和用途无效

专利信息
申请号: 200610088990.4 申请日: 2006-07-28
公开(公告)号: CN101114104A 公开(公告)日: 2008-01-30
发明(设计)人: 邱玲;郭昆朋;沈玉全 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: G02F1/361 分类号: G02F1/361
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 李柏
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 非线性 光学 活性 有机硅 聚合物 及其 制备 方法 用途
【权利要求书】:

1.一种非线性光学活性有机硅聚合物,其特征是,该聚合物的结构为:

其中:R1是H、10个碳原子以下的烷基、10个碳原子以下的烷氧基或酰氨基;A代表下面结构的电子受体部分:

其中:R2为NO2、CN或SO2R吸电子基团,R3为H、NO2、CN或SO2R,R4、R5为碳原子数1~10的烷基;所述的R为10个碳原子以下的烷基。

2.一种根据权利要求1所述的非线性光学活性有机硅聚合物的制备方法,其特征是,该方法包括以下步骤:

(1).将苯胺类化合物加入到硅烷偶联剂中,惰性气体保护下,在温度为50~150℃下反应,其中硅烷偶联剂与苯胺的摩尔比是2∶1~20∶1,反应完全后,除去没有反应完全的反应物,得含有苯胺结构的有机硅化合物;

(2).将步骤(1)得到的含有苯胺结构的有机硅化合物溶于有机溶剂中,加入过量的乙酸钠,在温度为-10~10℃下滴加电子受体A的重氮盐溶液,其中重氮盐与有机硅化合物的摩尔比为0.5∶1~1.5∶1,反应完成后,在水中沉降,收集沉淀,得到具有非线性光学活性特征的有机硅预聚物;

(3).将步骤(2)得到的具有非线性光学活性特征的有机硅预聚物溶解在有机溶剂中,旋涂成膜,在温度为50~120℃干燥气氛下,采用电晕极化的方法在预聚物薄膜上施加3000~5000V的电场极化,得到具有非线性光学活性的有机硅聚合物薄膜;

所述的苯胺类化合物结构为:

所述的电子受体的重氮盐结构为:

所述的有机硅预聚物结构为:

其中:R1是H、10个碳原子以下的烷基、10个碳原子以下的烷氧基或酰氨基;X=2~50;  A代表下面结构的电子受体部分:

其中:R2为NO2、CN或SO2R吸电子基团,R3为H、NO2、CN或SO2R,R4、R5为碳原子数1~10的烷基;所述的R为10个碳原子以下的烷基。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征是:所述的有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、四氢呋喃、丙酮、环己酮或乙醇。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征是:所述的步骤(1)的反应时间是5~50小时。

5.根据权利要求2所述的方法,其特征是:所述的除去没有反应完全的反应物,是以减压蒸馏方式进行。

6.根据权利要求2所述的方法,其特征是:所述的电场极化时间是1~5小时。

7.一种根据权利要求1所述的非线性光学活性有机硅聚合物的用途,其特征是:所述的非线性光学活性有机硅聚合物能作为光电器件制备的材料,以及作为二阶非线性光学材料。

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