[发明专利]集成电子电路的掩模形成无效
申请号: | 200610091585.8 | 申请日: | 2006-06-08 |
公开(公告)号: | CN1900826A | 公开(公告)日: | 2007-01-24 |
发明(设计)人: | J·布思托司;P·东尼;P·克洛奈尔 | 申请(专利权)人: | 圣微电子(克若乐斯2)联合股份公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F1/00;H01L21/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 李玲 |
地址: | 法国克*** | 国省代码: | 法国;FR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 集成 电子电路 形成 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于圣微电子(克若乐斯2)联合股份公司,未经圣微电子(克若乐斯2)联合股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610091585.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。