[发明专利]光刻装置、器件制造方法、由此制造的器件及可控构图部件有效
| 申请号： | 200610093679.9 | 申请日： | 2006-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN1892432A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | M·C·雷杰能;A·马卡罗威;L·G·M·克塞尔斯;S·尼天诺夫;P·W·J·M·坎帕;K·H·智洛夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 由此 可控 构图 部件 | ||
【权利要求书】：
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