[发明专利]半导体集成电路器件的制造方法有效
申请号: | 200610096000.1 | 申请日: | 2001-08-15 |
公开(公告)号: | CN1945438A | 公开(公告)日: | 2007-04-11 |
发明(设计)人: | 寺泽恒男;田中稔彦;宫崎浩;长谷川升雄;森和孝 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/004;H01L21/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 季向冈 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 集成电路 器件 制造 方法 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610096000.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:甲苯噁唑辛及其作为单胺再摄取抑制剂的治疗应用
- 下一篇:二维位置传感器