[发明专利]喷墨印头及其制造方法

权利要求书

1.一种喷墨印头，其特征在于其至少包括：

一晶片，具有多数个致动器件；

一腔室层，配置于该晶片之上，其中：

该腔室层具有多数个腔室，该些腔室位于该些致动器件上方；

该腔室层的材料是一种有机溶剂显影型的丙烯酸系负型光致抗蚀剂；以及

一喷嘴层，配置于该腔室层之上，其中：

该喷嘴层具有多数个喷嘴，而该些喷嘴分别与该些腔室连通；

该喷嘴层的材料包括环氧基型负型光致抗蚀剂或酰亚胺基型负型光致抗蚀剂。

2.根据权利要求1所述的喷墨印头，其特征在于其更包括一第一材料层，位于该腔室层与该喷嘴层之间，其中该第一材料层与该喷嘴层具有相同的材料，且该第一材料层与该腔室层具有大体上相同的轮廓。

3.根据权利要求2所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该第一材料层的厚度为1～40μm之间。

4.根据权利要求1所述的喷墨印头，其特征在于其更包括一第二材料层，位于该腔室层与该喷嘴层之间，其中该第二材料层与该腔室层具有相同的材料，且该第二材料层与该喷嘴层具有大体上相同的轮廓。

5.根据权利要求4所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该第二材料层的厚度为0.5～40μm之间。

6.根据权利要求1所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该腔室层更包括分别连接至该些腔室的多数个流道。

7.根据权利要求1所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该有机溶剂显影型的丙烯酸系负型光致抗蚀剂包括有机溶剂型含酯类或醚类的丙烯酸系的负型光致抗蚀剂聚合物。

8.根据权利要求1所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该喷嘴层的材料包括聚酰亚胺基型负型光致抗蚀剂。    

9.一种喷墨印头，其特征在于其至少包括：

一晶片，具有多数个致动器件；

一腔室层，配置于该晶片之上，其中该腔室层具有多数个腔室，且该些腔室位于该些致动器件上方；以及

一喷嘴层，配置于该腔室层之上，其中该喷嘴层具有多数个喷嘴，而该些喷嘴分别与该些腔室连通，其中该腔室层所使用的材料与该晶片之间的粘着力大于该喷嘴层所使用的材料与该晶片之间的粘着力。

10.根据权利要求9所述的喷墨印头，其特征在于其更包括一第一材料层，位于该腔室层与该喷嘴层之间，其中该第一材料层与该喷嘴层具有相同的材料，且该第一材料层与该腔室层具有大体上相同的轮廓。

11.根据权利要求10所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该第一材料层的厚度为1～40μm之间。

12.根据权利要求9所述的喷墨印头，其特征在于其更包括一第二材料层，位于该腔室层与该喷嘴层之间，其中该第二材料层与该腔室层具有相同的材料，且该第二材料层与该喷嘴层具有大体上相同的轮廓。

13.根据权利要求12所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该第二材料层的厚度为0.5～40μm之间。

14.根据权利要求9、10或12所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该喷嘴层的材料包括环氧基型负型光致抗蚀剂或酰亚胺基型负型光致抗蚀剂。

15.根据权利要求14所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该喷嘴层的材料包括聚酰亚胺基型负型光致抗蚀剂。

16.根据权利要求9、10或12所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该腔室层的材料包括有机溶剂显影型的丙烯酸系负型光致抗蚀剂。

17.根据权利要求16所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该有机溶剂显影型的丙烯酸系负型光致抗蚀剂包括有机溶剂型含酯类或醚类的丙烯酸系的负型光致抗蚀剂聚合物。

18.根据权利要求1或第9所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的各该喷嘴的内壁与该喷嘴层之下表面的夹角介于60度至90度之间。

19.根据权利要求9所述的喷墨印头，其特征在于其中所述的该腔室层更包括分别连接至该些腔室的多数个流道。