[发明专利]抛光浆料及其制备方法和基板的抛光方法有效
| 申请号： | 200610099589.0 | 申请日： | 2005-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN1944496A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | 金大亨;洪锡敏;全宰贤;金晧性;朴炫洙;白雲揆;朴在勤;金容国 | 申请（专利权）人： | K.C.科技股份有限公司;汉阳大学校产学协力团 |
| 主分类号： | C08J3/14 | 分类号： | C08J3/14;C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 韩国京畿道安*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 浆料 及其 制备 方法 | ||
【说明书】：
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