[发明专利]光刻装置和利用清洁气体的移动来减少污染的器件制造方法有效
| 申请号： | 200610099674.7 | 申请日： | 2006-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1892434A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | B·A·J·鲁蒂克休斯;P·R·巴特雷;W·J·博西;M·K·斯塔芬加;T·哈林克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;黄力行 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 利用 清洁 气体 移动 减少 污染 器件 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
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