[发明专利]具有低栅极电阻和缩小源极接触空间的高密度沟槽MOSFET无效
申请号: | 200610109651.X | 申请日: | 2006-08-14 |
公开(公告)号: | CN1917233A | 公开(公告)日: | 2007-02-21 |
发明(设计)人: | 谢福渊 | 申请(专利权)人: | 谢福渊 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/40 |
代理公司: | 北京天平专利商标代理有限公司 | 代理人: | 孙刚;赵海生 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 栅极 电阻 缩小 接触 空间 高密度 沟槽 mosfet | ||
【权利要求书】:
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